Structural modifications of AlInN/GaN thin films by neon ion implantation
Structural modifications of AlInN/GaN thin films by neon ion implantation
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氖离子注入对AlInN/GaN薄膜的结构修饰
DOI：
10.1016/j.physleta.2013.09.019
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发表时间：
2013-12
影响因子：
2.6
通讯作者：
J.J. Zhu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Muhammad Usman;Abdul Shakoor;Najmul Hassan;J.J. Zhu
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DOI：
10.1002/pssc.200565411
发表时间：
2006-06
期刊：
Physica Status Solidi (c)
影响因子：
--
作者：
R. Martin;D. Rading;R. Kersting;E. Tallarek;E. Nogales;D. Amabile;K. Wang;V. Katchkanov;C. Trager-Cowan;K. O'Donnell;I. Watson;V. Matias;A. Vantomme;K. Lorenz;E. Alves
通讯作者：
R. Martin;D. Rading;R. Kersting;E. Tallarek;E. Nogales;D. Amabile;K. Wang;V. Katchkanov;C. Trager-Cowan;K. O'Donnell;I. Watson;V. Matias;A. Vantomme;K. Lorenz;E. Alves
影响因子：
4
作者：
Dadgar, A;Schulze, F;Kunze, M
通讯作者：
Kunze, M
DOI：
10.1007/s10854-008-9708-z
发表时间：
2009-03
期刊：
Journal of Materials Science: Materials in Electronics
影响因子：
--
作者：
A. Majid;Akbar Ali;J. Zhu;Y. Wang
通讯作者：
A. Majid;Akbar Ali;J. Zhu;Y. Wang
影响因子：
3.2
作者：
A. Majid;Akbar Ali
通讯作者：
A. Majid;Akbar Ali
DOI：
10.1088/0022-3727/41/11/115404
发表时间：
2008-06
期刊：
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子：
--
作者：
A. Majid;Akbar Ali;J. Zhu;Y. Wang
通讯作者：
A. Majid;Akbar Ali;J. Zhu;Y. Wang