Investigation of breakdown mechanism during field emission process of AlN thin film microscopic cold cathode
Investigation of breakdown mechanism during field emission process of AlN thin film microscopic cold cathode
复制标题
AlN薄膜显微冷阴极场致发射击穿机理研究
DOI：
10.1116/1.4936383
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发表时间：
2016
影响因子：
1.4
通讯作者：
Hui Yang
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Feng Liang;Ping Chen;Degang Zhao;Desheng Jiang;Zongshun Liu;Jianjun Zhu;Jing Yang;Lingcong Le;Wei Liu;Xiaoguang He;Xiaojing Li;Xiang Li;Liqun Zhang;Jianping Liu;Hui Yang
The breakdown mechanism of a 100 nm-thick AlN thin film cold cathode structure was investigated during the field emission process, where the AlN film was synthesized by metalorganic chemical vapor deposition under low pressure on an n-type SiC substrate.
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影响因子：
6.7
作者：
Yaru Wang;Yingai Li;W. Feng;Weimo Li;Chunhong Zhao;Lian-he Liu;Kecheng Feng;Yang Zhao
通讯作者：
Yaru Wang;Yingai Li;W. Feng;Weimo Li;Chunhong Zhao;Lian-he Liu;Kecheng Feng;Yang Zhao
影响因子：
4
作者：
Y. Taniyasu;M. Kasu;T. Makimoto
通讯作者：
Y. Taniyasu;M. Kasu;T. Makimoto
DOI：
10.1002/1521-396x(200112)188:2
发表时间：
2001-12
期刊：
Physica Status Solidi (a)
影响因子：
--
作者：
E. Martinez-Guerrero;R. Beneyton;C. Adelmann;B. Daudin;L. S. Dang;G. Mula;H. Mariette
通讯作者：
E. Martinez-Guerrero;R. Beneyton;C. Adelmann;B. Daudin;L. S. Dang;G. Mula;H. Mariette
影响因子：
4
作者：
Tang, Y. B.;Cong, H. T.;Cheng, H. -M.
通讯作者：
Cheng, H. -M.
DOI：
10.1002/pssc.200674815
发表时间：
2007-06
期刊：
Physica Status Solidi (c)
影响因子：
--
作者：
A. Kishimoto;Y. Inou;T. Kita;O. Wada
通讯作者：
A. Kishimoto;Y. Inou;T. Kita;O. Wada