Ion Implantation of Germanium Into Silicon for Critical Coupling Control of Racetrack Resonators
Ion Implantation of Germanium Into Silicon for Critical Coupling Control of Racetrack Resonators
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将锗离子注入硅中以实现跑道谐振器的临界耦合控制
DOI:
10.1109/jlt.2020.2967935
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发表时间:
2020
影响因子:
4.7
通讯作者:
Milosevic M
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
Milosevic M
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影响因子:
3.8
作者:
J. Ackert;J. Doylend;D. Logan;P. Jessop;R. Vafaei;L. Chrostowski;A. Knights
通讯作者:
A. Knights
影响因子:
2.6
作者:
D. Hagan;Benjamin Torres;A. Knights
通讯作者:
A. Knights
影响因子:
3.8
作者:
R. Topley;L. O’Faolain;D. Thomson;F. Gardes;G. Mashanovich;G. Reed
通讯作者:
G. Reed
影响因子:
3.8
作者:
S. Spector;J. Knecht;P. Juodawlkis
通讯作者:
P. Juodawlkis
影响因子:
4.7
作者:
R. Topley;G. Martinez;L. O’Faolain;N. Healy;S. Mailis;D. Thomson;F. Gardes;A. Peacock;D. Payne;G. Mashanovich;G. Reed
通讯作者:
G. Reed