Development of Single Component Chemically Amplified Resist Based on Dehalogenation of Polymer
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基于聚合物脱卤的单组分化学增幅抗蚀剂的研制
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Hiroji Komano
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroki Yamamoto;Takahiro Kozawa;Seiichi Tagawa;Katsumi Ohmori;Mitsuru Sato;Hiroji Komano
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用于后光学光刻的化学放大抗蚀剂中酸分布不均匀的潜在原因
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
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作者：
H. Yamamoto;T. Kozawa;A. Nakano;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Ando;M. Sato;H. Komano
通讯作者：
H. Komano
化学放大极紫外光刻胶模型系统中的产酸效率
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
J. Vac. Sci. Technol. B
影响因子：
--
作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;H. Oizumi;I. Nishiyama
通讯作者：
I. Nishiyama
影响因子：
3.5
作者：
A. Saeki;T. Kozawa;S. Tagawa;H. B. Cao
通讯作者：
H. B. Cao
用于后光学光刻的聚（4-羟基苯乙烯）基化学放大抗蚀剂的酸生成机制：聚（4-羟基苯乙烯）和聚（4-甲氧基苯乙烯）的酸产率和去质子化行为
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
--
作者：
A. Nakano;T. Kozawa;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
J. Vac. Sci. Technol. B
影响因子：
--
作者：
H. Yamamoto;T. Kozawa;A. Nakano;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Ando;M. Sato;H. Komano
通讯作者：
H. Komano