High Aspect Ratio Imprinting Technology Using Moth Eye Structure Mold
High Aspect Ratio Imprinting Technology Using Moth Eye Structure Mold
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使用蛾眼结构模具的高深宽比压印技术
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Jun TANIGUCHI
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Noriyuki UNNO;Jun TANIGUCHI
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影响因子：
3.5
作者：
Bossard, M.;Boussey, J.;Chaker, M.
通讯作者：
Chaker, M.
通过部分填充技术提高具有防污性能的抗反射结构薄膜的传输性能
影响因子：
0.8
作者：
Hikari Eto;S. Hiwasa;J. Taniguchi
通讯作者：
J. Taniguchi
影响因子：
1.5
作者：
Shuso Iyoshi;M. Okada;T. Katase;K. Tone;K. Kobayashi;Shu Kaneko;Y. Haruyama;M. Nakagawa;H. Hiroshima;S. Matsui
通讯作者：
S. Matsui
高硬度防污紫外光固化树脂减反射结构复制模的耐久性评价
影响因子：
0.8
作者：
Junya Kawauchi;S. Hiwasa;J. Taniguchi
通讯作者：
J. Taniguchi
DOI：
10.1143/jjap.45.l954
发表时间：
2006-09-01
期刊：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS
影响因子：
--
作者：
Nakamatsu, Ken-ichiro;Yamada, Noriko;Matsui, Shinji
通讯作者：
Matsui, Shinji