Feasibility Study of ${\rm SrRuO}_{3}/{\rm SrTiO}_{3}/{\rm SrRuO}_{3}$ Thin Film Capacitors in DRAM Applications
Feasibility Study of ${\rm SrRuO}_{3}/{\rm SrTiO}_{3}/{\rm SrRuO}_{3}$ Thin Film Capacitors in DRAM Applications
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${ m SrRuO}_{3}/{ m SrTiO}_{3}/{ m SrRuO}_{3}$薄膜电容器在DRAM应用中的可行性研究
DOI：
10.1109/ted.2014.2314148
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发表时间：
2014
影响因子：
3.1
通讯作者：
P. Lugli
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
D. Popescu;B. Popescu;G. Jegert;S. Schmelzer;U. Boettger;P. Lugli
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影响因子：
3.2
作者：
Wang, C. C.;Lei, C. M.;Li, Y. D.
通讯作者：
Li, Y. D.
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影响因子：
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作者：
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通讯作者：
A. Kersch
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DOI：
--
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
作者：
B. Kaczer;S. Clima;K. Tomida;B. Govoreanu;M. Popovici;Min;J. Swerts;A. Belmonte;W. Wang;V. Afanas’ev;A. Verhulst;G. Pourtois;G. Groeseneken;M. Jurczak
通讯作者：
M. Jurczak
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DOI：
--
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
作者：
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通讯作者：
J. Gatineau
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DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
作者：
S. Schmelzer;D. Bräuhaus;S. Hoffmann‐Eifert;P. Meuffels;U. Böttger;L. Oberbeck;P. Reinig;U. Schröder;R. Waser
通讯作者：
R. Waser