Development of Photosensitive Poly(benzoxazole)Based on a Poly(o-hydroxy amide), a Dissolution Inhibitor, and a Photoacid Generator
Development of Photosensitive Poly(benzoxazole)Based on a Poly(o-hydroxy amide), a Dissolution Inhibitor, and a Photoacid Generator
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基于聚（邻羟基酰胺）、溶解抑制剂和光产酸剂的光敏聚（苯并恶唑）的开发
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ogura;T.;Higashihara;T.;Ueda;M
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