Difference in etching between Si(111) and (001) surfaces induced by atomic hydrogen irradiation observed by noncontact atomic force microscopy
Difference in etching between Si(111) and (001) surfaces induced by atomic hydrogen irradiation observed by noncontact atomic force microscopy
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非接触原子力显微镜观察原子氢辐照引起的Si(111)和(001)表面刻蚀差异
DOI：
10.7567/jjap.54.08lb08
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发表时间：
2015
影响因子：
1.5
通讯作者：
Masahiko Tomitori
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Tomoaki Miyagi;Akira Sasahara;Masahiko Tomitori
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氢等离子体对电子回旋共振化学气相沉积的刻蚀效应及其在低温硅选择性外延生长中的应用。
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1.5
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K. Sasaki;T. Takada
通讯作者：
T. Takada
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DOI：
10.1116/1.578647
发表时间：
1993
期刊：
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影响因子：
--
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通讯作者：
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通讯作者：
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DOI：
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通讯作者：
M. Schubert
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4
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K. Sasaki;H. Tomoda;T. Takada
通讯作者：
T. Takada