Characterization of (Ti,Al)N Films Prepared by Io Mixing and Vapor Deposition
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Io混合和气相沉积制备(Ti,Al)N薄膜的表征
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Ueta
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Uchida;M.Yamashita;S.Hanaki;T.Ueta
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