Shave-off depth profiling : Depth profiling with an absolute depth scale
Shave-off depth profiling : Depth profiling with an absolute depth scale
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剃须深度剖析：使用绝对深度刻度进行深度剖析
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y.Nihei
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Nojima;A.Maekawa;T.Yamamoto;B.Tomiyasu;T.Sakamoto;M.Owari;Y.Nihei
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纳米束SIMS装置的评价
影响因子：
6.7
作者：
M. Nojima;M. Toi;A. Maekawa;B. Tomiyasu;T. Sakamoto;M. Owari;Y. Nihei
通讯作者：
Y. Nihei
用于剥离膜的后稀释技术。
DOI：
10.1093/jmicro/dfh085
发表时间：
2004
期刊：
Journal of Electron Microscopy
影响因子：
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作者：
S. Sadayama;Y. Sugiyama;K. Iwasaki;Anto Yasaka
通讯作者：
Anto Yasaka
利用纳米束 SIMS 进行切削深度分析
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Journal of Surface Analysis 22
影响因子：
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作者：
M.Toi;A.Maekawa;T.Yamamoto;B.Tomiyasu;T.Sakamoto;M.Owari;M.Nojima;Y.Nihei
通讯作者：
Y.Nihei
离子能量分布对聚焦离子束电流密度分布的贡献
DOI：
10.1116/1.583616
发表时间：
1987
期刊：
影响因子：
--
作者：
Y. Kawanami;T. Ishitani;K. Umemura;S. Shukuri
通讯作者：
S. Shukuri
影响因子：
1.4
作者：
Hitomi Satoh;M. Owari;Y. Nihei
通讯作者：
Y. Nihei