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Ion Implantation in Ill-V Semiconductors

Ion Implantation in Ill-V Semiconductors
III-V 半导体中的离子注入
批准号：
8014647
负责人：
Nino Masnari
金额：
$3.9万
依托单位：
North Carolina State University
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1980
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1980-08-01 至 1981-12-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8014647&HistoricalAwards=false
关键词：
IonImplantationIllSemiconductors

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  • 批准号：
    9116679
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $108.0万
  • 财政年份：
    1991
  • 负责人：
    Nino Masnari
  • 依托单位：
    North Carolina State University
Effect of Channel Doping and Gate Oxide Configuration on Mosfet Operation
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