低压化学气相沉积设备-猫眼课题宝

低压化学气相沉积设备

批准号：

8112294

负责人：

Richard Jaeger

金额：

$3.03万

依托单位：

Auburn University

依托单位国家：

美国

项目类别：

Standard Grant

财政年份：

1982

资助国家：

美国

项目状态：

已结题

起止时间：

1982-01-01 至 1983-12-31

来源：

https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8112294&HistoricalAwards=false

关键词：

Low Pressure Chemical Vapor Deposition

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Acquisition of Packaging Research Equipment for the Alabama Microelectronics Science and Technology Center

批准号：

9512343
项目类别：

Standard Grant
资助金额：

$43.98万
财政年份：

1995
负责人：

Richard Jaeger
依托单位：

Auburn University

High Performance Metal-Oxide Semiconductor (Mos) Very Large Scale Integrated (Vlsi) Analog Devices and Circuits

批准号：

8211732
项目类别：

Standard Grant
资助金额：

$3.81万
财政年份：

1983
负责人：

Richard Jaeger
依托单位：

Auburn University

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