Low Pressure Chemical Vapor Deposition Equipment

低压化学气相沉积设备

基本信息

  • 批准号：
    8112294
  • 负责人：
    Richard Jaeger
  • 金额：
    $ 3.03万
  • 依托单位：
    Auburn University
  • 依托单位国家：
    美国
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 财政年份：
    1982
  • 资助国家：
    美国
  • 起止时间：
    1982-01-01 至 1983-12-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

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