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Atomic Force Microscopic and Ring Disk Voltammetric Studies on the Role of Chloride and Oxygen in Copper Electroplating
原子力显微镜和环盘伏安法研究氯和氧在铜电镀中的作用
基本信息
- 批准号：9622634
- 负责人：
- 金额：$ 3.13万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1996
- 资助国家：美国
- 起止时间：1996-04-01 至 1997-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
ABSTRACT CTS-9622634 A rotating ring/disk electrode (RDE) system and a control system for an atomic force microscope (AFM) are acquired. They are used to study the roles of chloride and dissolved oxygen in copper electroplating, including effects on the kinetics of deposition and on morphological development such as crystalline anisotropy, kinetic roughening, and facet formation. ***
摘要CTS-9622634 研制了用于原子力显微镜（AFM）的旋转环/盘电极（RDE）系统和控制系统。 它们用于研究氯化物和溶解氧在铜电镀中的作用，包括对沉积动力学和形态发展的影响，如结晶各向异性，动力学粗糙化和刻面形成。 ***
项目成果
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专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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