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Numerical simulation of microplasma jets and their interaction with surfaces

微等离子体射流及其与表面相互作用的数值模拟

基本信息

批准号：
109382849
负责人：
Professor Dr.-Ing. Thomas Mussenbrock
金额：
--
依托单位：
Lehrstuhl für Angewandte Elektrodynamik und Plasmatechnik
依托单位国家：
德国
项目类别：
Research Units
财政年份：
2009
资助国家：
德国
起止时间：
2008-12-31 至 2017-12-31
项目状态：
已结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/109382849?language=en
关键词：
Numerical simulation microplasma jets their

项目摘要

Microplasma jets driven in ambient air have recently come into the focus of scientific interest. In this context, their application particularly in surface treatment and modification is a major issue. Experiments have successfully shown that etching of substrates and deposition of materials is efficiently possible. The proposed project is intended to work in this field by means of self-consistent numerical simulations. In close connection to experiments performed within the Research Unit, a simulation model will be developed which allows to study microdischarge phenomena of plasma jets of various geometries, their effluents in ambient air and their interactions with surfaces.

在环境空气中驱动的微等离子体射流最近成为科学兴趣的焦点。在这种情况下，它们的应用，特别是在表面处理和改性是一个主要问题。实验已经成功地表明，衬底的蚀刻和材料的沉积是有效地可能的。拟议的项目旨在通过自洽的数值模拟在这一领域开展工作。与研究股内进行的实验密切相关，将开发一个模拟模型，以便研究各种几何形状的等离子体射流的微放电现象、其在环境空气中的流出物及其与表面的相互作用。

项目成果

期刊论文数量（5）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Ionization by bulk heating of electrons in capacitive radio frequency atmospheric pressure microplasmas

DOI：
10.1088/0963-0252/22/1/015012
发表时间：
2013-02-01
期刊：
PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY
影响因子：
3.8
作者：
Hemke, T.;Eremin, D.;Schulze, J.
通讯作者：
Schulze, J.

A new hybrid scheme for simulations of highly collisional RF-driven plasmas

用于模拟高度碰撞射频驱动等离子体的新混合方案

DOI：
10.1088/0963-0252/25/1/015009
发表时间：
2016
期刊：
Plasma Sources Science and Technology
影响因子：
3.8
作者：
D. Eremin;T. Hemke;T. Mussenbrock
通讯作者：
T. Mussenbrock

Spatial dynamics of helium metastables in sheath or bulk dominated rf micro-plasma jets

DOI：
10.1088/0022-3727/44/48/485204
发表时间：
2011-05
期刊：
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子：
0
作者：
B. Niermann;T. Hemke;N. Babaeva;M. Böke;M. Kushner;T. Mussenbrock;J. Winter
通讯作者：
B. Niermann;T. Hemke;N. Babaeva;M. Böke;M. Kushner;T. Mussenbrock;J. Winter

Simulation benchmarks for low-pressure plasmas: Capacitive discharges