Numerical methods for characterisation of micro- and nanostructures

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Die Art einer Partikel auf der Oberfläche eines Halbleiterwafers gibt Hinweise auf den Ursprung einer partikelförmigen Kontamination und bedingt die Art und Welse des folgenden Umgangs mit dem Problem wie z. B. einer möglichen Reinigung. Deshalb soll im Rahmen dieses Vorhabens eine Möglichkeit erforscht werden, über die Defektgröße hinaus auch deren Form und Brechungsindex zu bestimmen. Diese Merkmale werden üblicherweise noch nicht mit Laser-surface-scannern gemessen. Konkret soll eine Analysemethode entwickelt werden, mit der aus einer über den gesamten Halbraum gemessenen Streulichtverteilung die Form und der Brechungsindex einer Partikel auf einer planaren Oberfläche rekonstruiert werden kann.