Röntgenographische in situ Untersuchungen von Plasmanitrierprozessen

从德国的等离子体硝化碳和等离子体硝化碳的实验中，我们发现了一种新的技术和一种新的技术。Das Forschungsvorhaben Hat Daher zum Ziel，Durch röntgengraph ische Hröntgengraph ische Hrend des Platmanitrierens Dieses vorhandene ErkenntnisDefizit zu verringern.这是一种新的技术，在等离子体硝化硅的基础上安装了衍射仪，并在此基础上实现了等离子体硝化硅的原位检测。在Der Zukunft Muss sowohl die komplexe Messtechnik auf der Seite des PlamanitrierProzzess中，还存在着一种新的分析方法。麻省理工学院对此进行了分析，并提出了一种新的解决方案，该方案的目的是为了更好地促进经济发展。1 Ma.-%；C&lt；1 Ma-%erfolgen。对地衣温度和天然气的温度进行了低温等离子体硝化试验。这是一种新的分析方法，用于分析和处理所有的氮化物。这是一个伟大的事业，也是一个伟大的事业。Für jeden Einzelschritt Sind在现场分析和定义了当时的环境温度。在此，我们将不再接受各种不同的技术支持，也不会接受其他的技术支持。在此，我们将为您提供更多的服务，并为您提供服务。

Beim Plasmanitrieren und beim Plasmanitrocarburieren von Stählen liegt im Vergleich mit den entsprechenden Prozessen im Gas ein Kenntnismangel der randschichterzeugenden Elementarprozesse vor, der auch durch eine unzureichende, direkte, experimentelle Beobachtungsmöglichkeit der schichterzeugenden Prozesse verursacht ist. Das Forschungsvorhaben hat daher zum Ziel, durch röntgenographische in situ Analysen während des Plasmanitrierens dieses vorhandene Erkenntnisdefizit zu verringern. Es ist möglich, in einer kleinen, auf einem Röntgendiffraktometer installierten Plasmanitrierkammer, die mit einem röntgenstrahldurchlässigen Fenster versehen ist, die Entstehung einer Verbindungsschicht der Eisennitride während des Plasmanitrierens in situ röntgenographisch zu verfolgen. In der Zukunft muss sowohl die komplexe Messtechnik auf der Seite des Plasmanitrierprozesses, als auch bei den röntgenographischen Analysen deutlich verfeinert werden. Mit den röntgenographischen Analysen soll die Keimbildung der Verbindungsschicht, die zeitliche Entwicklung von ( und (-Phase und die Bestimmung der eigenspannungskorrigierten Linienlagen erfolgen, die geeignet ist, die jeweils die an der Oberfläche zu jedem Zeitpunkt in diesen Phasen vorliegenden Stickstoffgehalte während der gesamten Prozessdauer zu beobachten. Die Untersuchungen sollen an Kohlenstoffstählen 0,1 Ma.-%< C < 1 Ma.-% erfolgen. Bei den Plasmanitrierbehandlungen sind weiter Experimente bei unterschiedlichen Temperaturen und Gaszusammensetzungen geplant. Damit würden dem Plasmanitrierprozess über die Analyse der Nitrierschichteigenschaften die eingeführten Nitrierkennzahlen des Gasnitrierens zu jedem Zeitpunkt des Prozesses gegenübergestellt werden können. Es müssen aber auch die Einzelschritte des Prozesses wie Aufheizen, Behandeln und Abkühlens/Abschrecken separat untersucht werden. Für jeden Einzelschritt sind in situ Analysen durchzuführen und die Versuche nach definierten Zeiten mit einem Abschrecken von Prozesstemperatur zu beenden. Hier können dann unterschiedliche Gaszusammensetzungen und / oder thermisch bzw. mit dem Plasma aufgeheizt werden und die Zeit des Reinigungssputterns variiert werden, die jeweils zu unterschiedlichen Oberflächenzuständen zu Beginn des Wachstums der Verbindungsschicht führen. Hier sollen auch die Widersprüche geklärt werden, die einerseits beim Gasnitrieren die Entkohlung der Randschicht als Folge der Nitieratmosphäre diskutieren und andererseits beim Plasmanitrieren ein Absputtern des Kohlenstoffs als Ursache für die Entkohlung anführen.