PECVD/PVD Dual-Beschichtungsanlage

PECVD/PVD 双镀膜系统

• 批准号: 158967037
• 金额: --
• 依托单位: Universität zu Köln
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Major Research Instrumentation
• 财政年份: 2010
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2009-12-31 至 无数据
• 项目状态: 未结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/158967037?language=en
• 关键词: PECVD; PVD; Dual; Beschichtungsanlage

„Ein wesentlicher Forschungsschwerpunkt des Antragstellers ist die plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung. Für Neuentwicklungen bzw. vertiefende Forschung im Bereich der Schichtabscheidung mittels Plasmaverfahren soll im Arbeitskreis Mathur die PECVD/PVD-Dualanlage eine zentrale Rolle einnehmen. Die geplante Clusteranlage würde die beschriebenen Eigenschaften der Methoden von physikalischer und chemischer Schichtabscheidung kombinieren und die dabei gewonnenen Möglichkeiten der Prozessführung und Schichtentwicklung durch die Verwendung der im Arbeitskreis Mathur hergestellten Precursoren in den Optionen der zur Verfügung stehenden Schichtmaterialien für Zwecke der Grundlagenforschung bedeutend erweitern.“

“Ein wesentlicher Forschungsschwerpunkt des Antragstellers ist die Plasmaverfahren soll im Arbeitskreis Mathur die PECVD/PVD-Dualanlage eine zentrale Rolle einnehmen。集群化是对物理学和化学研究方法的特征描述和研究进展的重要组成部分 und Schichtentwicklung durch die Verwendung der im Arbeitskreis Mathur hergestellten Precursoren in den Optionen der zur Verfügung stehenden Schichtmaterialien für Zwecke der Grundlagenforschung bedeutend erweitern.“

项目成果

Plasma-chemical reduction of iron oxide photoanodes for efficient solar hydrogen production

• DOI: 10.1016/j.ijhydene.2014.01.080
• 发表时间: 2014-03-26
• 期刊: INTERNATIONAL JOURNAL OF HYDROGEN ENERGY
• 影响因子: 7.2
• 作者: Mettenboerger, Andreas;Singh, Trilok;Mathur, Sanjay
• 通讯作者: Mathur, Sanjay