PECVD/PVD Dual-Beschichtungsanlage
PECVD/PVD Dual-Beschichtungsanlage
批准号:
158967037
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2010
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2009-12-31 至 --
中文摘要
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英文摘要
„Ein wesentlicher Forschungsschwerpunkt des Antragstellers ist die plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung. Für Neuentwicklungen bzw. vertiefende Forschung im Bereich der Schichtabscheidung mittels Plasmaverfahren soll im Arbeitskreis Mathur die PECVD/PVD-Dualanlage eine zentrale Rolle einnehmen. Die geplante Clusteranlage würde die beschriebenen Eigenschaften der Methoden von physikalischer und chemischer Schichtabscheidung kombinieren und die dabei gewonnenen Möglichkeiten der Prozessführung und Schichtentwicklung durch die Verwendung der im Arbeitskreis Mathur hergestellten Precursoren in den Optionen der zur Verfügung stehenden Schichtmaterialien für Zwecke der Grundlagenforschung bedeutend erweitern.“
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI:
10.1016/j.ijhydene.2014.01.080
发表时间:
2014-03-26
期刊:
INTERNATIONAL JOURNAL OF HYDROGEN ENERGY
影响因子:
7.2
作者:
[Mettenboerger, Andreas, Singh, Trilok, Mathur, Sanjay]
通讯作者:
Mathur, Sanjay
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Pt-Al粘结层界面调控对EB-PVD热障涂层生长及抗氧化性能的影响机制
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批准号:2025JJ50238
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批准年份:2025
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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批准号:
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依托单位:
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项目类别:国际(地区)合作与交流项目
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负责人:岩雨
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依托单位: