SBIR Phase II: High quality, low cost bulk gallium nitride substrates

SBIR 第二阶段:高质量、低成本块状氮化镓衬底

基本信息

  • 批准号:
    1026896
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 50万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 财政年份:
    2010
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    2010-09-01 至 2014-08-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

This Small Business Innovation Research (SBIR) Phase II project aims to develop a scalable, compact and rapid ammonothermal method to grow high-quality, low-cost bulk gallium nitride (GaN) substrates. A novel apparatus that is scalable to large volumes at modest cost will be utilized to achieve high-pressure, high-temperature conditions and grow single-crystal GaN. This project is expected to demonstrate the synthesis of ultrapure raw material and the growth of high-quality bulk GaN crystals with excellent crystallinity, improved transparency, a diameter of at least 1 inch and a process capable of rapid scale-up to larger sizes.The broader/commercial impact of this project will be the potential to offer high-quality and significantly lower cost GaN substrates, which may enable their applications in next generation displays including light-emitting diodes (LEDs), green and blue laser diodes etc. Bulk GaN substrates, currently in use for 405 nm laser diodes only and grown by a vapor-phase technique, are projected to be a $405 million market in 2010. The availability of low-cost and high-quality bulk GaN substrates is anticipated to improve efficiency and reduce cost of GaN-based LEDs, which will enable a large reduction in electrical power consumption.
这个小型企业创新研究(SBIR)第二阶段项目旨在开发一种可扩展的,紧凑的和快速的氨法,以生长高质量,低成本的块状氮化镓(GaN)衬底。 一种新的设备,可扩展到大容量在适度的成本将被用来实现高压,高温条件和生长单晶GaN。 该项目预计将展示超纯原材料的合成和高质量块状GaN晶体的生长,该晶体具有优异的结晶度,改善的透明度,直径至少为1英寸,并且能够快速放大到更大尺寸的工艺。该项目的更广泛/商业影响将是提供高质量和显著降低成本的GaN衬底的潜力,这使得它们能够应用于下一代显示器,包括发光二极管(LED)、绿色和蓝色激光二极管等。目前仅用于405 nm激光二极管并通过气相技术生长的块状GaN衬底预计在2010年将是4.05亿美元的市场。 低成本和高质量的块状GaN衬底的可用性预计将提高GaN基LED的效率并降低其成本,这将使电力消耗大幅降低。

项目成果

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