Selbstdiffusion in amorphem Silizium
非晶硅中的自扩散
基本信息
- 批准号:211026848
- 负责人:
- 金额:--
- 依托单位:
- 依托单位国家:德国
- 项目类别:Research Grants
- 财政年份:2012
- 资助国家:德国
- 起止时间:2011-12-31 至 2014-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Amorphes Silizium (a-Si) ist der Prototyp eines amorphen Halbleiters. Trotz seiner technologischen Bedeutung v. a. im Bereich Solarzellen, Dünnschichttransistoren und Li-Ionen- Batterien liegen für dieses Basismaterial keinerlei experimentelle Daten bezüglich der Selbstdiffusionskoeffizienten vor. Dies ist auf die geringe atomare Beweglichkeit, aufgrund der kovalenten Bindung, gepaart mit der Metastabilität dieses Materials zurückzuführen, was einen experimentellen Zugang extrem erschwert. Die Kenntnis der Selbstdiffusion ist, neben einem grundlegenden Verständnis, wichtig für die thermische Stabilität und das Kristallisationsverhalten, zur Charakterisierung atomarer Punktdefekte sowie für eine Beschreibung struktureller Umordnungs- und Relaxationsvorgänge. Im Rahmen dieses Antrags soll erstmals die Selbstdiffusion in a-Si in Abhängigkeit von der Temperatur, der Glühzeit, dem Wasserstoffgehalt, der Dotierung und dem strukturellen Zustand (amorph/teilkristallin) charakterisiert werden. Die Experimente sollen mit Neutronenreflektometrie an [29Si/nat.Si]20- Isotopmultilagen erfolgen. Diese Methode ermöglicht es Diffusionslängen im Subnanometerbereich, unterhalb des kritischen Keimradius der Kristallisation, bei gleichzeitig niedrigen Diffusionskoeffizienten zu bestimmen. Sie ist daher hervorragend geeignet, die oben genannten Problemfaktoren zu überwinden und erfolgreiche Ergebnisse zu erzielen. Es sollen Parametersätze zur Modellierung von Kristallisations- und strukturellen Umordnungsvorgängen sowie Informationen über Aktivierungsenergien und den Transport vermittelnde Defekte ermittelt und mit den strukturellen Eigenschaften korreliert werden.
无定形硅(a-Si)的原型是无定形的Halbleiters。Trotz Seiner Technology v.A.im Bereich Solarzellen,DünnschichtTranoren and Li-Ionen-Batterien liegen für Dieses BasisMaterial Keinelei Examentelle Daten Bezüglich der SelbstDiffusionskoeffizienten vor.它是一种新型的金属材料,是一种新型的金属材料,是一种新型的材料。这是一种新的贸易方式,它是一种新的贸易方式,也是一种新的贸易方式。我是拉赫曼人,他们在a-Si中的扩散,在温度下,在Glühzeit,Dm Wasserstoffgehold,der Dotierung and Dm strukturellen Zustand(amorph/teilkristallin)charakterisiert是不同的。[29Si/Nat.Si]20-同种异构体的实验。我们的方法是用亚纳米技术,用Kritischen KeimRadius和Be Gleichzeitig niedrigen Diffusionsskoeffizienten zu估计。她是她的前辈,也是最好的朋友,也是最好的。Es Sollen参数ätze zur Modellierung von Kristallisations-and strukturellen Umordnungsvorgängen Sowie Informationenüber Aktivierungsenergien and den Transport vermittelnde defekte ermittelt and MIT den strukturellen Eigenschaften korrelert den.
项目成果
期刊论文数量(3)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Self-Diffusion in Amorphous Silicon.
非晶硅中的自扩散
- DOI:10.1103/physrevlett.116.025901
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:8.6
- 作者:F. Strauß;T. Geue;J. Stahn;A. Koutsioubas;S. Mattauch;H. Schmidt
- 通讯作者:H. Schmidt
Neutron Reflectometry for the Investigation of Self-Diffusion in Amorphous Silicon
用于研究非晶硅自扩散的中子反射仪
- DOI:10.4028/www.scientific.net/ddf.363.225
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:F. Strauß;T. Geue;J. Stahn;H. Schmidt
- 通讯作者:H. Schmidt
Short range atomic migration in amorphous silicon
非晶硅中的短程原子迁移
- DOI:10.1063/1.4948333
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:3.2
- 作者:F. Strauß;B. Jerliu;T. Geue;J. Stahn;H. Schmidt
- 通讯作者:H. Schmidt
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