Nanostrukturierte Hartstoffschichten im System TixWyCrzB2

Das Ziel Dieses Antrags ist die Herstellung and die Charakterisierung von Nano Structure Turierten Keramischen Hartstoffschichten im system(TixWyCrz)B2 Sowie ein Verständnis der Prozesse der Gefüge.(1)Die Abscheidung Aus(Tix-WyCrz)B2-Mischkristall Target MIT anschlieüder Glühung and In-In-Ausscheidung Weterer Phasen，(2)Gleichzeitige reaktive Abscheidung ATiB2-，WB2-，and Crb2-traGowie Sowie(3)Abscheidung on Diborid-Multilagen und Cranslie？Sputterschichten Sollen im Hinblick auf ihre Morphologie，Ihr Nanogefüge and ihre Chemische Zusammensetzung MIT Röntgenbeugung(GIXRD)，Elektronenmikroskopie(REM，TEM)，Rasterkraftmikroskopie(AFM)，Sekundärionen-MassenSpektrometrie(SIMS)，Röntgen荧reszenzanalyse(RFA)和GlimmentladungsSpektroskopie(GDoS)charakterisisiert。麻省理工学院采用的是一种新的方法和一种新的结构和运动方式。这句话的意思是：“我是最好的，也是最好的。”这是一种特殊的纳米金属手套。他说：“这是一件很好的事情。”

Das Ziel dieses Antrags ist die Herstellung und die Charakterisierung von nanostrukturierten keramischen Hartstoffschichten im System (TixWyCrz)B2 sowie ein Verständnis der Bildungsprozesse der Gefüge. Die Schichtabscheidung soll mit Magnetronsputtern erfolgen, wobei folgende Vorgehensweisen zur Erzeugung eines nanostrukturierten Gefüges getestet werden sollen: (1) Die Abscheidung aus (Tix- WyCrz)B2-Mischkristalltargets mit anschließender Glühung und In-situ-Ausscheidung weiterer Phasen, (2) gleichzeitige reaktive Abscheidung aus TiB2-, WB2-, und CrB2- Tragets sowie (3) Abscheidung von Diborid-Multilagen und anschließender Interdiffusionsglühung. Die Sputterschichten sollen im Hinblick auf ihre Morphologie, ihr Nanogefüge und ihre chemische Zusammensetzung mit Röntgenbeugung (GIXRD), Elektronenmikroskopie (REM, TEM), Rasterkraftmikroskopie (AFM), Sekundärionen- Massenspektrometrie (SIMS), Röntgenfluoreszenzanalyse (RFA) und Glimmentladungsspektroskopie (GDOS) charakterisiert werden. Mit diesen Methoden sollen auch die strukturellen Änderungen und kinetischen Prozesse während der Bildung und Modifizierung der Schichten untersucht und modelliert werden. Dies dient dazu, diese Prozesse grundlegend zu verstehen, um im Hinblick auf eine Optimierung der Schichtstruktur geeignete Parameter zu erhalten. Eine weitere Charakterisierung der Schichten zur Ermittlung von Härtewerten soll mittels Nanoindention erfolgen. Die Ergebnisse sollen mit den strukturellen Eigenschaften der Schichten korreliert und die Schichten optimiert werden.