Nanostrukturierte Hartstoffschichten im System TixWyCrzB2

这两个陷阱是纳米结构在系统（TixWyCrz）B2中的应用和特点，因此是Gefüge的一种教育方法。Die Schichtabscheidung soll mit Magnetronsternterm erfolgen，wobei folgende Vorgehensweisen zur Erzeugung eines nanostrukturierten Gefüges getestet韦尔登sollen：（1）B2-Mischkristalltargets（Tix-WyCrz）的吸收，结合原位扩散和原位扩散相，（2）TiB 2-、WB 2-和CrB 2-靶的快速反应吸收，（3）Diborid-Multilagen和Diborid-Interdiffusionsglühung的吸收。溅射沉积物在其形态学、纳米结构和化学表征中的应用，包括X射线衍射（GIXRD）、电子显微镜（REM、TEM）、光栅显微镜（AFM）、激光质谱（西姆斯）、X射线荧光分析（RFA）和闪烁光谱（GDOS）的韦尔登特性。这种方法也解决了结构和动力学过程中对韦尔登的培养和改造问题。这一过程是在Hinblick上对结构几何参数进行优化的基础上进行研究的。Eine weitere Charakterisierung der Schichten zur Ermittlung von Härtewerten soll mittels Nanoindentation erfolgen.该Ergebnisse sollen with den strukturellen Eigenschaften der Schichten korreliert and die Schichten optimiert韦尔登.

Das Ziel dieses Antrags ist die Herstellung und die Charakterisierung von nanostrukturierten keramischen Hartstoffschichten im System (TixWyCrz)B2 sowie ein Verständnis der Bildungsprozesse der Gefüge. Die Schichtabscheidung soll mit Magnetronsputtern erfolgen, wobei folgende Vorgehensweisen zur Erzeugung eines nanostrukturierten Gefüges getestet werden sollen: (1) Die Abscheidung aus (Tix- WyCrz)B2-Mischkristalltargets mit anschließender Glühung und In-situ-Ausscheidung weiterer Phasen, (2) gleichzeitige reaktive Abscheidung aus TiB2-, WB2-, und CrB2- Tragets sowie (3) Abscheidung von Diborid-Multilagen und anschließender Interdiffusionsglühung. Die Sputterschichten sollen im Hinblick auf ihre Morphologie, ihr Nanogefüge und ihre chemische Zusammensetzung mit Röntgenbeugung (GIXRD), Elektronenmikroskopie (REM, TEM), Rasterkraftmikroskopie (AFM), Sekundärionen- Massenspektrometrie (SIMS), Röntgenfluoreszenzanalyse (RFA) und Glimmentladungsspektroskopie (GDOS) charakterisiert werden. Mit diesen Methoden sollen auch die strukturellen Änderungen und kinetischen Prozesse während der Bildung und Modifizierung der Schichten untersucht und modelliert werden. Dies dient dazu, diese Prozesse grundlegend zu verstehen, um im Hinblick auf eine Optimierung der Schichtstruktur geeignete Parameter zu erhalten. Eine weitere Charakterisierung der Schichten zur Ermittlung von Härtewerten soll mittels Nanoindention erfolgen. Die Ergebnisse sollen mit den strukturellen Eigenschaften der Schichten korreliert und die Schichten optimiert werden.