Herstellung und Charakterisierung von TiN-Solarabsoberschichten

TiN 太阳能吸收器顶层的生产和表征

基本信息

  • 批准号:
    214379229
  • 负责人:
  • 金额:
    --
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    德国
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 财政年份:
    2012
  • 资助国家:
    德国
  • 起止时间:
    2011-12-31 至 2012-12-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Die begrenzte Verfügbarkeit von fossilen Energiequellen erfordert ein Umdenken zu regenerativen Energien. Die Wandlung von Solarenergie in Wärme für den mittleren Temperaturbereich bis 100 °C ist schon lange Stand der Technik und es wird bereits eine Vielzahl von Systemen am Markt angeboten. Obwohl Solarthermie längst schon wirtschaftlich ist, stehen einer weiteren Verbreitung häufig noch die recht hohen Anschaffungskosten entgegen. Auch ist zu befürchten, dass bei einem Preiskampf bei den bestehenden Stoffsystemen und Verfahren die Produktion nach Fernost verlagert wird. Es ist das Ziel des vorliegenden Antrages, ein im Vergleich zu den meist eingesetzten Vakuumbeschichtungsverfahren ein atmosphärisches Tauchbeschichtungsverfahren zu untersuchen, das von Suspensionen mit nanoskaligen TiN-Pulvern ausgeht. Nanoskalige TiN-Pulvern sind selektive Absorber, die nur im sichtbaren Spektralbereich das Sonnenlicht absorbieren. Im nahen IR-Bereich dominiert die Reflektion des Aluminiumsubstrates. Bisher wurde dieses Stoffsystem nur in Vakuumschichtverfahren eingesetzt. Es ist das Ziel des Antrages, die guten Werte der Sputterschichten mit Tauchverfahren zu erreichen und die bisher mit Suspensionen erreichte Schichtqualität durch E-Feld unterstützte Verfahren zu verbessern.
Die begrenzte Verfügbarkeit von fossilen Energiquellen erfordert ein Umdenken zu regenerativen Energien. Die Wandlung von Solarenergie in Wärme für den mittleren Temperaturbereich bis 100 °C ist schon lange Stand der Technik und es wird bereits eine Vielzahl von Systemen am Markt angeboten.显然,太阳能发电厂已经很不景气了,因此,一个更好的发电厂也将面临更大的挑战。这也是一个很好的选择,因为一个最好的库存系统和最好的生产系统将使我们的生产达到最佳状态。这是一个充满危险的陷阱,在一个非常危险的大气环境中,一个真空压力容器,一个带有纳米钛粉末的悬挂装置。纳米氮化钛粉末是一种选择性的吸收剂,仅在特殊的光谱条件下才能吸收阳光。IR-Bereich现在控制着微型基底的反射。Bisher wurde dieses Stoffsystem努尔in Vakuumschichtverfahren eingesetzt.这是Ziel des Antrages,该guten Werte der Sputterschichten mit Tauchverfahren zu erreichen and the bisher mit Suspensionen erreichte Schichtqualität durch E-Feld unterstützte Verfahren zu verbessern。

项目成果

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