Herstellung und Charakterisierung von TiN-Solarabsoberschichten

TiN 太阳能吸收器顶层的生产和表征

• 批准号: 214379229
• 负责人: Professor Dr. Rolf Clasen
• 金额: --
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2011-12-31 至 2012-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/214379229?language=en
• 关键词: Herstellung; und; Charakterisierung; von; TiN

Die begrenzte Verfügbarkeit von fossilen Energiequellen erfordert ein Umdenken zu regenerativen Energien. Die Wandlung von Solarenergie in Wärme für den mittleren Temperaturbereich bis 100 °C ist schon lange Stand der Technik und es wird bereits eine Vielzahl von Systemen am Markt angeboten. Obwohl Solarthermie längst schon wirtschaftlich ist, stehen einer weiteren Verbreitung häufig noch die recht hohen Anschaffungskosten entgegen. Auch ist zu befürchten, dass bei einem Preiskampf bei den bestehenden Stoffsystemen und Verfahren die Produktion nach Fernost verlagert wird. Es ist das Ziel des vorliegenden Antrages, ein im Vergleich zu den meist eingesetzten Vakuumbeschichtungsverfahren ein atmosphärisches Tauchbeschichtungsverfahren zu untersuchen, das von Suspensionen mit nanoskaligen TiN-Pulvern ausgeht. Nanoskalige TiN-Pulvern sind selektive Absorber, die nur im sichtbaren Spektralbereich das Sonnenlicht absorbieren. Im nahen IR-Bereich dominiert die Reflektion des Aluminiumsubstrates. Bisher wurde dieses Stoffsystem nur in Vakuumschichtverfahren eingesetzt. Es ist das Ziel des Antrages, die guten Werte der Sputterschichten mit Tauchverfahren zu erreichen und die bisher mit Suspensionen erreichte Schichtqualität durch E-Feld unterstützte Verfahren zu verbessern.

这是一种新能源化石的再生。从技术和技术的角度来看，这是一种全新的技术和技术，在市场上销售的系统都是100℃。一位名叫L的人说：“我不知道你的意思是什么？”这就是我们所要做的，也就是我们要做的就是生产这些产品。这是一个很大的问题，因为这是一个很大的问题，因为这是一个很大的问题。纳米级锡基复合材料是一种选择性的吸波材料，它的吸收能力很强。我是Nahen IR-Bereich Dominiert Diflektion des Aluminium基板。Bisher wurde Dieses es Stoffsystem Nur in Vakuumschichtverfahren eingesetzt.这是因为ZIELL des Antrages，De guten Werte der Sputterschichten MIT Tauchverfahren zu erreichen and die Bisher MIT Suspensionen erreichte Schichtqualität duch E-Feld unterstützte Verfahren zu Verfahren z