Herstellung und Charakterisierung transparenter und leitfähiger ZnSnxOy-Mischoxidschichten

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Das Ziel dieses Projekts ist die Präparation dotierter ZnSnxOy-Schichten mit definierter Zusammensetzung und Phasenreinheit unter Verwendung des PVD Beschichtungsprozesses sowie die Untersuchung der strukturellen, elektrischen und optischen Eigenschaften der Schichten in Abhängigkeit von den Herstellungsbedingungen.Zur Dotierung der Schichten soll sowohl die Substitution des Kationen-Untergitters durch Einbau von Sb für ZnSnxOy-Schichten als auch des Anionen-Untergitters durch Einbau von N, F und Cl untersucht werden. Ausgangspunkt ist dabei stets das reaktive Radiofrequenz- Magnetronsputtern (RFMS) von metallischen Targets, wobei die schichtbildenden Teilchenstromdichten stetig verändert werden können.Die grundlegenden Zusammenhänge zwischen den elektrischen und optischen Eigenschaften und den strukturellen Eigenschaften der Schichten werden aufgeklärt. Dazu werden systematische Untersuchungen der Substitutionschemie für die dotierten ZnSnxOy-Schichten, ihrem strukturellem Aufbau und ihren elektrischen und optischen Eigenschaften in Abhängigkeit der Herstellungsbedingungen durchgeführt.Die Kenntnis dieser Zusammenhänge verspricht die Möglichkeit, potentielle Einsatzgebiete dieser Materialien bereits im Vorfeld zu definieren, um dann Schichen mit den jeweils erforderlichen Eigenschaften synthetisieren zu können.