Herstellung und Charakterisierung von Niobpentoxid-Schichten mit schaltbarer elektrischer Leitfähigkeit

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Im Rahmen des gemeinsamen Projektes des Institutes für Elektronik- und Sensormaterialien und des Institutes für Werkstoffwissenschaft soll Nb2O5 mit Hilfe der physikalischen Schichtabscheidung (PVD) hergestellt und in Metall-Isolator-Metall-Strukturen integriert werden. Zunächst sollen dabei Elektro-nenstrahl verdampfte Schichten und in der zweiten Phase gesputterte Schichten verwendet werden. Durch eine Kombination von mikrostrukturanalytischen und elektrischen Charakterisierungsmethoden soll der Schaltmechanismus in Nb2O5 geklärt werden. Insbesondere soll dabei der Zusammenhang zwischen den Herstellungsbedingungen des Nioboxides und des Elektrodenmaterials der Phasensta-bilität und der Mikrostruktur der Schichten, der Morphologie der Grenzflächen zwischen Metall und Isolator und den elektrischen Kennwerten des Schaltprozesses herausgearbeitet werden. Die Ergebnisse des Forschungsprojektes tragen ebenfalls zur Klärung der Alterungsmechanismen in Nb2O5-basierten Metall-Isolator-Metall-Strukturen bei.