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Research Initiation-Semiconductor Doping by Ion Implantation
研究启动-离子注入半导体掺杂
基本信息
- 批准号：6931558
- 负责人：
- 金额：--
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：
- 财政年份：1969
- 资助国家：美国
- 起止时间：1969-01-01 至 1970-07-01
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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