工学教育への展開を目指したバイポーラトランジスタ作製教材の開発

开发用于工程教育的双极晶体管制造教材

基本信息

  • 批准号:
    21K02895
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2021
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2021-04-01 至 2024-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究では,これまでの研究で確立してきた不純物拡散層の形成技術を基に,半導体デバイスの中で基本となる代表的なデバイスの一つであるバイポーラトランジスタの作製技術とその動作原理を理論と実践の両面から効果的に習得することに繋がるバイポーラトランジスタ作製教材を開発している.バイポーラトランジスタにはnpn型とpnp型があるが,本研究ではトランジスタ内を電子が移動するnpn型バイポーラトランジスタ(npn BPT)の作製教材の開発を試みている.npn BPTは電子の多い2つのn型と正の電荷を帯びた正孔の多いp型で構成され,n型からp型へ電子が注入され,それがもう一方のn型に到達することで動作する.昨年度までの研究によって,npn BPTを作製する基本的な技術・工程が確立できた.npn BPTのnpn構造の形成には,p型不純物拡散層の上にn型不純物拡散層を形成する必要があるため,p型不純物拡散層の上に形成したn型不純物拡散層を形成し,そのpn接合の電気的特性を評価したところ,1100℃で形成するp型不純物拡散層の熱処理時間が長くなるにつれて,整流性ではなく線形性を示すことが確認された.その結果,n型Si基板上のp型不純物拡散層上に形成したn型不純物拡散層で構成されるnpn BPTのエミッタ接地回路のコレクタ電流がコレクタ-エミッタ間電圧の変化に対してほぼ一定の特性を示す一般的なエミッタ接地回路の電流-電圧特性を示す一方で,そのコレクタ電流が小さくなったのではないかと思われる.以上の結果,p型不純物拡散層の上にn型不純物拡散層は形成できるものの,そのpn接合でnpn BPTの作製に必要な電流-電圧特性を得ることは容易でないことが見込まれたことから,npn構造を縦方向に形成したサブストレート型ではなく,横方向に形成するラテラル型npn BPTの設計を行い,その作製を試みた.
In this study, で に, を れまで れまで で research で to establish the <s:1> て た た た た impurity 拡 layering <s:1> formation technology を basis に In semiconductor デ バ イ ス の で basic と な る represent な デ バ イ ス の a つ で あ る バ イ ポ ー ラ ト ラ ン ジ ス タ の cropping technology と そ の action と を theories to be practice の struck surface か ら unseen に acquisition of fruit す る こ と に 繋 が る バ イ ポ ー ラ ト ラ ン ジ ス タ system of teaching material を for 発 し て い る. バ イ ポ ー ラ ト ラ ン ジ ス タ に は NPN と PNP が あ る が, this study で は ト ラ ン ジ ス タ を electronic が inside mobile す る NPN バ イ ポ ー ラ ト ラ ン ジ ス タ NPN (BPT) textbooks の open the の cropping 発 を try み て い る. NPN BPT は electronic の い 2 more つ の n-type と is の charge を 帯 び た hole is の い more p type で constitute さ れ, n-type か ら p-type へ electronic が injection さ れ, そ れ が も う side の n-type に reach す る こ と で action す る. In the previous year, まで によって studied によって, npn BPTを production する basic な technology · engineering が established で た た た. NPN BPT の の NPN structure formation に は, p-type impurity content on the company, loose layer の に n impurity content company, loose layer を form す る necessary が あ る た め, p-type impurity content on the company, loose layer の に form し た n impurity content company, loose layer を し formation, そ の characteristics of pn junction の electric 気 を review 価 し た と こ ろ, 1100 ℃ で form す る p-type impurity content company, loose layer の hot 処 Richard が long く な る に つ れ て, rectifying sex で は な く linear sex を shown す こ と が confirm さ れ た. Youdaoplaceholder0 そ result N-type Si substrate の p-type impurity content company, and a scattering of に layer formed し た n impurity content company, loose layer で constitute さ れ る NPN BPT の エ ミ ッ タ ground loop の コ レ ク タ current が コ レ ク タ - エ ミ ッ タ between electric 圧 の variations change に し seaborne て ほ ぼ certain の を shown す general features な エ ミ ッ タ ground loop の current - electric 圧 characteristic を で す in party, そ の コ レ ク タ が little electricity さ く な っ た の で は な い か と think わ れ る. の above results, p-type impurity content on the company, loose layer の に n impurity content company, loose layer は form で き る も の の, そ の pn junction で NPN BPT の cropping に な necessary current - electric 圧 characteristic を have る こ と は easy で な い こ と が see 込 ま れ た こ と か ら, NPN tectonic を 縦 direction に form し た サ ブ ス ト レ ー ト type で は な く, In the horizontal direction, に form するラテラ するラテラ type npn BPT <s:1> design を row, そ <s:1> fabricating を test みた.

项目成果

期刊论文数量(1)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
npnバイポーラトランジスタ作製教材の開発
npn双极晶体管制作教材开发
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    斉藤準;宗尻修治;野村和泉;庄司善彦;玉川碧海(指導教員:辻琢人)
  • 通讯作者:
    玉川碧海(指導教員:辻琢人)
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

辻 琢人其他文献

辻 琢人的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('辻 琢人', 18)}}的其他基金

集積回路設計・作製エキスパート育成教材の開発とその応用
集成电路设计与制造专家培训教材的开发与应用
  • 批准号:
    24K06400
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
高輝度・長寿命ナノクリスタルシリコン発光層の作製
高亮度、长寿命纳米晶硅发光层的制备
  • 批准号:
    16710092
  • 财政年份:
    2004
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)

相似海外基金

通信機の超低消費電力化に向けた窒化ガリウム系高周波トランジスタの開発
开发用于通信设备超低功耗的氮化镓基高频晶体管
  • 批准号:
    22KJ1532
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
化合物半導体横方向ヘテロ接合の創成とその電子デバイスへの応用
化合物半导体横向异质结的制备及其在电子器件中的应用
  • 批准号:
    21H01384
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
SiCバイポーラ動作時におけるキャリア移動度の評価手法確立
SiC双极运行期间载流子迁移率评估方法的建立
  • 批准号:
    21K14203
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
SiCバイポーラトランジスタの表面・界面キャリア再結合過程の解明に基づく高性能化
基于表面/界面载流子复合过程的阐明提高SiC双极晶体管的性能
  • 批准号:
    16J08202
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Device modeling of SiC bipolar junction transistors and fabrication of high-frequency power converters
SiC 双极结型晶体管的器件建模和高频功率转换器的制造
  • 批准号:
    16H06890
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
A nanotechnology platform established in average science laboratories
在普通科学实验室建立的纳米技术平台
  • 批准号:
    16K00992
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
点欠陥・界面準位の低減による超高性能炭化珪素バイポーラトランジスタの実現
通过减少点缺陷和界面态实现超高性能碳化硅双极晶体管
  • 批准号:
    13J06044
  • 财政年份:
    2013
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
III族窒化物/炭化珪素界面制御による高性能ヘテロ接合バイポーラトランジスタの実現
III族氮化物/碳化硅界面控制实现高性能异质结双极晶体管
  • 批准号:
    09J05047
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
走査型トンネル顕微鏡によるバリスティックホットエレクトロンデバイスの基礎研究
利用扫描隧道显微镜进行弹道热电子器件的基础研究
  • 批准号:
    18560328
  • 财政年份:
    2006
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
酸化還元活性金属錯体の薄膜構造精密制御とバイポーラトランジスタへの応用
氧化还原活性金属配合物薄膜结构的精确控制及其在双极晶体管中的应用
  • 批准号:
    16750118
  • 财政年份:
    2005
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了