New production process of solar-grade silicon utilizing liquid zinc cathode
New production process of solar-grade silicon utilizing liquid zinc cathode
批准号:
21H04620
负责人:
野平 俊之
金额:
$26.71万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份:
2021
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2021-04-05 至 2025-03-31
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英文摘要
太陽電池用シリコンを、高純度シリカを原料として、低エネルギー・低コスト・高生産性で製造する方法を開発する。従来の炭素熱還元に代わる還元方法として溶融CaCl2中における液体亜鉛陰極を利用した電解還元法を採用し、「電解工程」と「Si析出工程」からなる新製造法の確立を目指して次の二つの要素研究を行う。①「電解工程」における液体Zn-Si合金陰極上でのSiO2電解還元の「メカニズム解明」と「実用化に向けた条件最適化(温度、電流密度、セル形状等)」②液体Zn-Si合金からの「Si析出工程」の基礎データ取得と、実プロセスを念頭にした条件最適化本年度は、①に関して、プロセスを低温化する検討として、融点の低い溶融NaCl-CaCl2中で検討を行った。CaOを含む溶融NaCl-CaCl2中にSiO2が溶解したときのシリケートイオン種を顕微レーザーラマン分光法により明らかにした。その結果を踏まえ、種々のシリケートイオン種が含まれる溶融塩を準備し、液体Zn電極および固体グファイト電極を用いて、反応の電位依存性の検討などの電気化学的挙動解析を行った。次に、液体Zn電極および固体グファイト電極を用いて種々の電位で定電位電解を行いサンプルを作製した。得られたサンプルの断面観察を行った。さらに、Znを酸溶解させ、得られたSiの形態・組成をSEM/EDXで分析し、不純物量をICP-AESで分析した。②に関して、実験手法の確立と基礎データの取得を行った。新たに購入したブリッジマン炉を用いて、種々の降温パターンでSiを析出させ、断面観察を行った。また、Znを酸溶解させ、得られたSiの形態・組成をSEM/EDXで分析し、不純物量をICP-AESで分析した。
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DOI:
10.1149/1945-7111/abf4b2
发表时间:
2021-04-01
期刊:
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
影响因子:
3.9
作者:
[Ma, Yuanjia, Yamamoto, Takayuki, Nohira, Toshiyuki]
通讯作者:
Nohira, Toshiyuki
溶融KF-KCl-K2SiF6中における液体Zn電極を用いた結晶性Si電析:Si基板上に電析で準備したZn膜電極を用いた検討
在熔融 KF-KCl-K2SiF6 中使用液态 Zn 电极进行晶体 Si 电沉积:使用在 Si 基板上电沉积制备的 Zn 薄膜电极进行研究
DOI:
--
发表时间:
2023
期刊:
影响因子:
--
作者:
[茂木渉, 法川勇太郎, 野平俊之]
通讯作者:
野平俊之
Electrodeposition of Crystalline Si at a Liquid Zn Electrode in KF–KCl Molten Salt: Effect of the Charge Passed
KF 中液态锌电极电沉积晶体硅
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[W. Moteki, Y. Norikawa, T. Nohira]
通讯作者:
T. Nohira
溶融 KF-KCl-K2SiF6中における液体Zn電極を用いた結晶性Si電析に与える電流密度の影響
电流密度对熔融 KF-KCl-K2SiF6 中液态锌电极沉积晶体硅的影响
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[茂木渉,法川勇太郎,野平俊之]
通讯作者:
茂木渉,法川勇太郎,野平俊之
DOI:
10.1515/htmp-2022-0033
发表时间:
2022-05-12
期刊:
HIGH TEMPERATURE MATERIALS AND PROCESSES
影响因子:
1.5
作者:
[Yasuda, Kouji, Nohira, Toshiyuki]
通讯作者:
Nohira, Toshiyuki
共 14 条
使用済み耐火物のクライオライト系電解質への溶解および電解還元メカニズムの解明
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批准号:22F21749
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.47万
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财政年份:2022
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负责人:野平 俊之
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依托单位:
使用済み耐火物のクライオライト系電解質への溶解および電解還元メカニズムの解明
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批准号:21F21749
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2021
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负责人:野平 俊之
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依托单位:
中低温イオン液体を用いた新規アモルファスシリコン薄膜形成法
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批准号:20656117
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.18万
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财政年份:2008
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负责人:野平 俊之
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依托单位:
新溶融塩電解法によるシリカからのソーラーグレードシリコン製造
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批准号:16686044
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
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资助金额:$19.14万
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财政年份:2004
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负责人:野平 俊之
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依托单位:
溶融塩中でのシリカの直接電解還元による高純度シリコン製造
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批准号:15656191
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.6万
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财政年份:2003
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负责人:野平 俊之
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依托单位:
溶融塩電気化学プロセスを用いた新規なシランガス生成法
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批准号:12750650
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.28万
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财政年份:2000
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负责人:野平 俊之
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依托单位:
海外基金