权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

Preparation of Fe-Ni Alloy Film via Electroless Plating and Controlling Internal Stress in Film

化学镀Fe-Ni合金薄膜的制备及薄膜内应力的控制

基本信息

批准号：
19K15330
负责人：
Yamamoto Takayo
金额：
$ 2.66万
依托单位：
Kyoto Municipal Institute of Industrial Technology and Culture
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2019
资助国家：
日本
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K15330/
关键词：
熱膨張制御無電解めっきインバー合金 Fe-Ni

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（6）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

インバー型Fe-Ni合金膜の電気化学的創製およびその熱膨張挙動

Invar型Fe-Ni合金薄膜的电化学生成及其热膨胀行为

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
表面技術
影响因子：
0
作者：
山本貴代;永山富男;中村俊博
通讯作者：
中村俊博

Si基板上に成膜した無電解Fe-Ni-B合金薄膜の熱応力挙動

Si基体化学镀Fe-Ni-B合金薄膜的热应力行为

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
山本貴代;永山富男;紺野祥岐;大藏要;中村俊博
通讯作者：
中村俊博

無電解めっき法によるインバー合金薄膜の開発

化学镀法开发因瓦合金薄膜

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
山本貴代;永山富男;中村俊博
通讯作者：
中村俊博

Preparation and Characterization of Electroless Deposited Fe-Ni-B Alloy Films

化学沉积Fe-Ni-B合金薄膜的制备与表征

DOI：
10.1149/08907.0053ecst
发表时间：
2019
期刊：
ECS Transactions
影响因子：
0
作者：
Yamamoto Takayo;Nagayama Tomio;Konno Yoshiki;Okura Kaname;Nakamura Toshihiro
通讯作者：
Nakamura Toshihiro

Effect of Glycine on Deposition of Electroless Fe-Ni-B Alloy

甘氨酸对化学镀 Fe-Ni-B 合金沉积的影响

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Takayo Yamamoto;Tomio Nagayama;Toshihiro Nakamura
通讯作者：
Toshihiro Nakamura

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

Yamamoto Takayo其他文献

Yamamoto Takayo的其他文献

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

立即体验

相似海外基金

高分子基板の無電解めっきで形成される高分子‐金属境界領域の3次元ナノ構造制御

聚合物基底化学镀形成的聚合物-金属边界区域的三维纳米结构控制

批准号：
24K08533
财政年份：
2024
资助金额：
$ 2.66万
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

無電解めっき法を用いたアンモニア分解用金属微粒子触媒のナノプロセッシング

化学镀法纳米加工氨分解金属颗粒催化剂

批准号：
22K14495
财政年份：
2022
资助金额：
$ 2.66万
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists

Controllability Improvement of Silicon Surface Finishing Using Electroless Reaction and Its Application for Resource Recovery and Elemental Analysis

化学镀反应硅表面处理的可控性改进及其在资源回收和元素分析中的应用

批准号：
22K04779
财政年份：
2022
资助金额：
$ 2.66万
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

Fabrication of Antimicrobial Textiles by Roll-to-Roll Electroless Plating

卷对卷化学镀制备抗菌纺织品

批准号：
2114052
财政年份：
2021
资助金额：
$ 2.66万
项目类别：
Standard Grant

Surface modification on flexible substrates for their electroless deposition

用于无电沉积的柔性基材的表面改性

批准号：
19K05608
财政年份：
2019
资助金额：
$ 2.66万
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

Electroless Plating for the Manufacture of Custom PDMS Microfluidic Dies and Devices

用于制造定制 PDMS 微流控模具和器件的化学镀

批准号：
527803-2018
财政年份：
2018
资助金额：
$ 2.66万
项目类别：
University Undergraduate Student Research Awards

RUI: Regenerative Electroless Etching for the Production of Si Nanostructures

RUI：用于生产硅纳米结构的再生化学蚀刻

批准号：
1825331
财政年份：
2018
资助金额：
$ 2.66万
项目类别：
Standard Grant

SBIR Phase II: A Novel Electroless Nickel/Immersion Gold (ENIG) Surface Finish for Better Reliability of Electronic Assemblies

SBIR 第二阶段：新型化学镀镍/沉金 (ENIG) 表面处理，可提高电子组件的可靠性

批准号：
1739047
财政年份：
2017
资助金额：
$ 2.66万
项目类别：
Standard Grant

Metallization of Silk Textile via Supercritical Carbon Dioxide Promoted Electroless Plating for the Applications of Wearable Devices

通过超临界二氧化碳促进的丝绸纺织品金属化促进化学镀在可穿戴设备中的应用

批准号：
17J07395
财政年份：
2017
资助金额：
$ 2.66万
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows

Electroless thin films for solution-processable fuel cell catalysis

用于可溶液加工燃料电池催化的化学镀薄膜

批准号：
476115-2015
财政年份：
2016
资助金额：
$ 2.66万
项目类别：
Alexander Graham Bell Canada Graduate Scholarships - Doctoral