Fabrication of novel quantum/classical devices based on excitons
基于激子的新型量子/经典器件的制造
基本信息
- 批准号:19K21978
- 负责人:
- 金额:$ 4.08万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
- 财政年份:2019
- 资助国家:日本
- 起止时间:2019-06-28 至 2021-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(45)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Sputter deposition of ZnAlO films with tunable bandgaps from 3.4 to 6.1 eV Structural and Optical Properties of ZnMgO Films on Sapphire Substrates Fabricated by Sputter Epitaxy 1.発表者名 D. Takahashi, Y. Nakamura, S. Urakawa, D. Yamashita, T. Okumura, K. Kam
溅射沉积 ZnAlO 薄膜,带隙可调,范围为 3.4 至 6.1 eV 溅射外延法在蓝宝石衬底上溅射沉积 ZnMgO 薄膜的结构和光学特性 1。
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:R. Narishige;K. Kaneshima;S. Urakawa;D. Yamashita;K. Kamataki;T. Okumura;K. Koga;M. Shiratani;N. Itagaki
- 通讯作者:N. Itagaki
スパッタエピタキシー法による(ZnO)X(InN)1-X膜の作製: 高温バッファー層の効果
溅射外延法制备(ZnO)X(InN)1-X薄膜:高温缓冲层的影响
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:寺澤寛;金島健太郎;成重椋太;山下大輔;奥村賢直;鎌滝晋礼;古閑一憲;白谷正治;板垣奈穂
- 通讯作者:板垣奈穂
Effects of Substrate temperature on Crystal Quality of (ZnO)x(InN)1-x Films Fabricated by Sputter Epitaxy
衬底温度对溅射外延制备(ZnO)x(InN)1-x薄膜晶体质量的影响
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Kaneshima;N. Miyahara;D. Yamashita;K. Kamataki;K. Koga;M. Shiratani;N. Itagaki
- 通讯作者:N. Itagaki
Sputtering Growth of Metal Oxynitride Semiconductors for Excitonic Devices
用于激子器件的金属氮氧化物半导体的溅射生长
- DOI:10.1109/edtm50988.2021.9420921
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Narishige Ryota;Itagaki Naho;Shiratani Masaharu
- 通讯作者:Shiratani Masaharu
(ZnO)x(InN)1-x膜のスパッタエピタキシーにおける基板温度の影響
衬底温度对(ZnO)x(InN)1-x薄膜溅射外延的影响
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:金島健太郎;宮原奈乃華;山下大輔;鎌滝晋礼;古閑一憲;白谷正治;板垣奈穂
- 通讯作者:板垣奈穂
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Itagaki Naho其他文献
Cross-Correlation Analysis of Fluctuations of Interactions between Nanoparticles and Low Pressure Reactive Plasmas
纳米粒子与低压反应等离子体相互作用波动的互相关分析
- DOI:
10.4028/www.scientific.net/msf.941.2104 - 发表时间:
2018 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Zhou Ren;Mori Kento;Ohtomo Hiroshi;Yamashita Daisuke;Seo Hyun Woong;Itagaki Naho;Koga Kazunori;Shiratani Masaharu - 通讯作者:
Shiratani Masaharu
Collective Punishment を通じた現在のパレスチナ占領政策制度の一考察
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- DOI:
- 发表时间:
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- 影响因子:0
- 作者:
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Performances of Carbon Black-Titanium nitrate and Carbon Black-Titanium/Triton X-100 Composite Polymer Counter Electrodes for Dye-Sensitized Solar Cells
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- DOI:
10.4028/www.scientific.net/amr.1168.35 - 发表时间:
2022 - 期刊:
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- 作者:
Chawarambwa Fadzai Lesley;Putri Tika Erna;Pankaj Attri;Kamataki Kunihiro;Itagaki Naho;Koga Kazunori;Shiratani Masaharu - 通讯作者:
Shiratani Masaharu
Effects of Sputtering Pressure on (ZnO)<sub>x</sub>(InN)<sub>1-x</sub> Crystal Film Growth at 450°C
450℃溅射压力对(ZnO)<sub>x</sub>(InN)<sub>1-x</sub>晶体薄膜生长的影响
- DOI:
10.4028/www.scientific.net/msf.941.2093 - 发表时间:
2018 - 期刊:
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- 作者:
Itagaki Naho;Takeuchi Kazuto;Miyahara Nanoka;Imoto Kouki;Seo Hyun Woong;Koga Kazunori;Shiratani Masaharu - 通讯作者:
Shiratani Masaharu
Ultra-High-Speed, Low-Power Superconductor Computing with Architectural Optimization
具有架构优化的超高速、低功耗超导计算
- DOI:
- 发表时间:
2023 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Narishige Ryota;Yamashita Naoto;Kamataki Kunihiro;Okumura Takamasa;Koga Kazunori;Shiratani Masaharu;Yabuta Hisato;Itagaki Naho;Koji Inoue - 通讯作者:
Koji Inoue
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Sputter Epitaxy of high-quality oxynitride semiconductors for optical switching devices
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- 批准号:
15H05431 - 财政年份:2015
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$ 4.08万 - 项目类别:
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23K17752 - 财政年份:2023
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$ 4.08万 - 项目类别:
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- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
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$ 4.08万 - 项目类别:
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- 批准号:
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- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
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激子晶体管室温工作演示及激子输运理论探索
- 批准号:
22KJ2459 - 财政年份:2023
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$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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22K04936 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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- 批准号:
22K04917 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 4.08万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)














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