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Development of contrast-amplified observation method for low-voltage secondary electron images
低压二次电子图像对比放大观察方法的研制
基本信息
- 批准号：19K22065
- 负责人：
- 金额：$ 4.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
- 财政年份：2019
- 资助国家：日本
- 起止时间：2019-06-28 至 2021-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（5）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
MILC (Si-Ge) 薄膜における二次電子像コントラストの成因
MILC（Si-Ge）薄膜中二次电子图像对比度的原因
- DOI：
- 发表时间：2021
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：板倉賢;小佐々周也;赤嶺大志;都甲薫;熊谷和博;安田雅昭
- 通讯作者：安田雅昭
MILC試料のコントラスト要因
MILC 样品的对比系数
- DOI：
- 发表时间：2021
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Haruyuki Inui;Koudai Niitsu;Kyosuke Kishida;Easo George;Kazuki Ehara;船守美穂;熊谷和博
- 通讯作者：熊谷和博
結晶コントラスト再考２
重新考虑水晶对比 2
- DOI：
- 发表时间：2020
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：K. Abe;Y. Kimura;X. Xu;K. Niitsu;T. Omori;R. Kainuma;安田雅昭
- 通讯作者：安田雅昭
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Itakura Masaru其他文献
Infrared laser annealing of nanocomposite Nd?Fe?B/Mo/FeCo multilayered magnet films
纳米复合Nd?Fe?B/Mo/FeCo多层磁体薄膜的红外激光退火
- DOI：
10.1063/9.0000346 - 发表时间：
2022 - 期刊：
- 影响因子：1.6
- 作者：
Koike Kunihiro;Uchida Tokunosuke;Sakurai Keiho;Inaba Nobuyuki;Kato Hiroaki;Itakura Masaru;Hara Shigeo;Saito Yu;Okubo Susumu;Ohta Hitoshi - 通讯作者：
Ohta Hitoshi
Suppression mechanism of abnormal grain growth by Zr addition in pressless processed Nd-Fe-B sintered magnets
无压加工 Nd-Fe-B 烧结磁体中添加 Zr 抑制异常晶粒长大的机制
- DOI：
10.1016/j.jallcom.2021.161244 - 发表时间：
2021 - 期刊：
- 影响因子：6.2
- 作者：
Itakura Masaru;Sugiyama Koichi;Akamine Hiroshi;Nishida Minoru;Nakamura Michihide;Mizoguchi Tetsuhiko;Iriyama Takahiko - 通讯作者：
Iriyama Takahiko
Changes in stress state and seismicity pattern responsible for the 2019 Ridgecrest, California, earthquakes
导致 2019 年加利福尼亚州里奇克莱斯特地震的应力状态和地震活动模式的变化
- DOI：
10.1002/essoar.10504871.1 - 发表时间：
2020 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Uda Ryusei;Koike Kunihiro;Inaba Nobuyuki;Kato Hiroaki;Itakura Masaru;Okubo Susumu;Ohta Hitoshi;Tsuchiura Hiroki;Nanjo Kazuyoshi - 通讯作者：
Nanjo Kazuyoshi
Itakura Masaru的其他文献
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- DOI：
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{{ truncateString('Itakura Masaru', 18)}}的其他基金
Control of oriented interfaces in nanocomposite film magnets based on ultramicroscopic analysis
基于超显微分析的纳米复合薄膜磁体定向界面控制
- 批准号：
20H02425 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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Secondary Electron Spray Ionization Interface and high resolution mass spectrometer
二次电子喷雾电离接口和高分辨率质谱仪
- 批准号：
459447812 - 财政年份：2021
- 资助金额：
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Major Research Instrumentation
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- 资助金额：
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EP/V012037/1 - 财政年份：2021
- 资助金额：
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Research Grant
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- 批准号：
2841063 - 财政年份：2021
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- 批准号：
EP/V011995/1 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
Research Grant
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- 批准号：
EP/V012126/1 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
Research Grant
Engineering cathode particle (in-)homogeneity through Secondary Electron Hyperspectral Imaging
通过二次电子高光谱成像工程阴极颗粒（不）均匀性
- 批准号：
2426048 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
Studentship
Understanding of SEM secondary electron voltage contrast and development of quantification method
SEM二次电子电压对比的理解和定量方法的发展
- 批准号：
18K04246 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Secondary electron collision cross sections for micro- and nano-dosimetry of emerging radiation and chemo-radiation therapies.
用于新兴放射和化学放射疗法的微米和纳米剂量测定的二次电子碰撞截面。
- 批准号：
390203 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
Operating Grants
MRI: Development of a Localized Field Emission Scanning Electron Microscope and Secondary Electron Spin Polarization Analysis System
MRI：局域场发射扫描电子显微镜和二次电子自旋极化分析系统的开发
- 批准号：
1644655 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
Standard Grant