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シリコン(110)-(1×1)表面の非線形エッチング過程の解明
硅(110)-(1×1)表面非线性刻蚀过程的阐明
基本信息
- 批准号：20H00907
- 负责人：
- 金额：$ 0.31万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Scientists
- 财政年份：2020
- 资助国家：日本
- 起止时间：2020-04-01 – 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
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- 影响因子：1.9
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Suto Shozo
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