Relationship between 2D-nucleation and long crystal growth in solution growth of SiC without molten silicon.

无熔融硅溶液生长 SiC 时二维成核与长晶体生长之间的关系。

基本信息

  • 批准号:
    20H02637
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 10.32万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2020
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2020-04-01 至 2023-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
液相Siを用いたSiCセラミックス全面への多結晶SiCコーティング
使用液相Si在SiC陶瓷整个表面上进行多晶SiC涂层
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    A. Honda;K. Yamane;K. Iwasa;K. Oka;Y. Toda;R. Morita;各務 祐気,山本 周一,内田 龍之介,太子 敏則
  • 通讯作者:
    各務 祐気,山本 周一,内田 龍之介,太子 敏則
液相シリコンとメタンによる多結晶SiC コーティング
液态硅和甲烷的多晶 SiC 涂层
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    内田 龍之介;各務 祐気;山本 周一;太子 敏則
  • 通讯作者:
    太子 敏則
Cr溶媒からのSiC溶液成長における金属溶媒添加効果と表面形態
金属溶剂添加和表面形貌对 Cr 溶剂中 SiC 溶液生长的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    尾関 克哉;岩井 智哉;太子 敏則
  • 通讯作者:
    太子 敏則
Polycrystalline SiC coating on large-sized SiC ceramics using Si vapor
使用 Si 蒸气在大尺寸 SiC 陶瓷上形成多晶 SiC 涂层
  • DOI:
    10.2109/jcersj2.21121
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.1
  • 作者:
    KAGAMI Yuuki;YAMAMOTO Syuuichi;YOKOBAYASHI Yuta;UCHIDA Ryunosuke;SUZUKI Koki;TARUTA Seiichi;TAISHI Toshinori
  • 通讯作者:
    TAISHI Toshinori
バルク単結晶およびその育成技術からの新たな研究アプローチ
基于块状单晶及其生长技术的新研究方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    今村薫平;水上雄太;吉田悠生;橋本顕一郎;栗田伸之;田中秀数;藤本聡;山田昌彦;松田祐司;E.-G. Moon;芝内孝禎;太子敏則
  • 通讯作者:
    太子敏則
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Taishi Toshinori其他文献

Solution Growth of SiC from the Crucible Bottom with Dipping under Unsaturation State of Carbon in Solvent
碳不饱和状态下溶剂浸渍坩埚底部固溶生长SiC
  • DOI:
    10.4028/www.scientific.net/msf.924.51
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Taishi Toshinori;Takahashi Masaru;Tsuchimoto Naomichi;Suzuki Koki;Hyun Koang Yong
  • 通讯作者:
    Hyun Koang Yong
Effect of the Growth Conditions on the Crystal Quality in Solution Growth of SiC Using Cr Solvent without Molten Si
无熔硅Cr溶剂固溶生长SiC生长条件对晶体质量的影响
  • DOI:
    10.4028/www.scientific.net/msf.924.35
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Suzuki Koki;Hyun Koang Yong;Taishi Toshinori
  • 通讯作者:
    Taishi Toshinori
Anisotropic Superconducting Properties of Noncentrosymmetric PbTaSe2 as a Candidate Exotic Superconductor
非中心对称 PbTaSe2 作为候选奇异超导体的各向异性超导特性
  • DOI:
    10.1166/sam.2016.2832
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Suzuki Koki;Hyun Koang Yong;Taishi Toshinori;H. Namiki and T. Sasagawa
  • 通讯作者:
    H. Namiki and T. Sasagawa
History and Current Status of Research on Nitride Semiconductors
氮化物半导体研究的历史与现状
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Suzuki Koki;Hyun Koang Yong;Taishi Toshinori;H. Namiki and T. Sasagawa;T. Matsuoka
  • 通讯作者:
    T. Matsuoka
固液成長界面における酸化物融液の構造
固液生长界面氧化物熔体的结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Suzuki Koki;Hyun Koang Yong;Taishi Toshinori;H. Namiki and T. Sasagawa;T. Matsuoka;宇田聡
  • 通讯作者:
    宇田聡

Taishi Toshinori的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('Taishi Toshinori', 18)}}的其他基金

Solution growth of SiC by improved TSSG technique from metal solvent using SiC ceramics
使用 SiC 陶瓷通过改进的 TSSG 技术从金属溶剂中溶液生长 SiC
  • 批准号:
    16K04947
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 10.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

相似海外基金

高温溶液成長の3DxTイメージングとフェーズフィールドアナリシス
高温溶液生长的 3DxT 成像和相场分析
  • 批准号:
    24H00384
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 10.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Relationship between solvation structure and crystal perfection at the molecular level for solution growth
溶液生长的分子水平上溶剂化结构与晶体完美度之间的关系
  • 批准号:
    21K04902
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 10.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Solution growth of SiC by improved TSSG technique from metal solvent using SiC ceramics
使用 SiC 陶瓷通过改进的 TSSG 技术从金属溶剂中溶液生长 SiC
  • 批准号:
    16K04947
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 10.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Rapid solution growth of SiC using 100% Cr solvent
Rapid%20solution%20growth%20of%20SiC%20using%20100%%20Cr%20溶剂
  • 批准号:
    16K14445
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 10.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
超高品質SiCの実現を目指した溶液成長界面のIn-situ観察と原子分解能解析
溶液生长界面的原位观察和原子分辨率分析旨在实现超高质量 SiC
  • 批准号:
    15J11838
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 10.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Clarification of step structure formation on the solution growth interface of SiC by direct interface observation and molecular dynamics simulation
通过直接界面观察和分子动力学模拟阐明 SiC 溶液生长界面上阶梯结构的形成
  • 批准号:
    15H04166
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 10.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Low temperature solution growth of high quality AlN single crystal using Cr-alloy solvent
Cr合金溶剂低温溶液生长高质量AlN单晶
  • 批准号:
    26630376
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 10.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Determination of dynamics of SiC solution growth by real-time observation of growth interface
通过实时观察生长界面确定 SiC 溶液生长动力学
  • 批准号:
    24686083
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 10.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
溶液成長法によるSiC結晶の欠陥自己修復メカニズムの解明
溶液生长法阐明SiC晶体缺陷自修复机制
  • 批准号:
    23860025
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 10.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
Fe-Si合金溶媒を用いたn型、p型SiC単結晶の革新的高速溶液成長法の物理化学
使用 Fe-Si 合金溶剂的 n 型和 p 型 SiC 单晶创新高速溶液生长方法的物理化学
  • 批准号:
    11J10842
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 10.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了