The invention of hafnium-based multi-bit non-volatile memory utilizing polarization/charge trap smart functions
The invention of hafnium-based multi-bit non-volatile memory utilizing polarization/charge trap smart functions
批准号:
19H00758
负责人:
Ohmi Shun-ichiro
金额:
$29.04万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份:
2019
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2019-04-01 至 2023-03-31
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Etching Control of HfN Encapsulating Layer for PtHf-Silicide Formation with Dopant Segregation Process
通过掺杂剂偏析工艺形成 PtHf-硅化物的 HfN 封装层的蚀刻控制
DOI:
10.1587/transele.2018fup0003
发表时间:
2019
期刊:
IEICE Transactions on Electronics
影响因子:
0.5
作者:
[S. Ohmi, Y. Tsukamoto, and R. M. D. Mailig]
通讯作者:
and R. M. D. Mailig
Scanning tunneling spectroscopy study of 20 nm-thick nitrogen-doped lanthanum hexaboride thin film
20 nm厚氮掺杂六硼化镧薄膜的扫描隧道光谱研究
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
Vacuum
影响因子:
4
作者:
[K. Nagaoka, W. Hayami, S. Ohmi]
通讯作者:
S. Ohmi
The effect of post metallization annealing sequence on the Pt gate etching immunity of MFSFET with ferroelectric non-doped HfO2
金属化后退火顺序对铁电非掺杂 HfO2 MFSFET 的 Pt 栅极抗蚀刻能力的影响
DOI:
--
发表时间:
2023
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Xinyue Zhang, Joong-Won Shin, Masakazu Tanuma, and Shun-ichiro Ohmi]
通讯作者:
and Shun-ichiro Ohmi
Investigation of the etching process for Pt gate electrode on the ferroelectric property of 5 nm thick nondoped HfO2 thin films
Pt栅电极刻蚀工艺对5 nm厚非掺杂HfO2薄膜铁电性能的影响
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Joong-Won Shin, Masakazu Tanuma, and Shun-ichiro Ohmi]
通讯作者:
and Shun-ichiro Ohmi
Hf-based Ferroelectric Thin Films for MFSFET Application
用于 MFSFET 应用的铪基铁电薄膜
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[田沼 将一, Joong-Won Shin, 大見 俊一郎, 田沼将一,Joong-Won Shin,大見俊一郎, Joong-Won Shin and Shun-ichiro Ohmi]
通讯作者:
Joong-Won Shin and Shun-ichiro Ohmi
共 147 条
A study on integrated single organic semiconductor complementary transistors with top-gate structures
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批准号:15K13969
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.5万
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财政年份:2015
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负责人:Ohmi Shun-ichiro
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依托单位:
海外基金