混合配位子型 6-8 族異種金属錯体による協奏的反応場の構築

タングステンとルテニウムを有する二核錯体について、架橋配位子にイミド配位子を持つ錯体、複数のヒドリド配位子を持つ錯体をそれぞれ合成し、その反応性を調査した。ビス架橋イミド錯体の反応性を調査したところ、それぞれの金属上で異なる反応が観察され、タングステン上ではアルキルリチウムとのトランスメタレーションが、ルテニウム上では2電子ドナーの配位が観測された。KC8との反応では、二電子還元された二核錯体によって溶媒（ベンゼン）のC-H結合が切断されることを明らかにした。このとき、１つの架橋イミド配位子が解離し、C-H結合切断により生成するヒドリドが架橋サイトに転移する様子が観察された。ポリヒドリド錯体の研究では、金属-ヒドリド結合に二酸化炭素が挿入しホルマート錯体が生成することを確認した。このとき、ルテニウム上の配位子がCp*の場合はタングステン上に２分子の二酸化炭素が挿入するのに対して、Cn*(1,4,7-トリメチルトリアザシクロノナン)の場合では、二つの金属に架橋したホルマート配位子が得られることを明らかにした。また、タングステン上の配位子が三座ホスフィン配位子の場合では、支持配位子上のC-H結合が活性化されるのに対し、３つのトリメチルホスフィン配位子の場合では、光照射することで溶媒のベンゼンのC-H結合を活性化することが明らかとなった。これらは、隣接する金属中心の協同効果を発揮させるための多金属反応場の設計について調査した結果であり、とくに混合配位子型W/Ru二核反応場の効率的な合成法の開発と反応性に及ぼす配位子の影響に ついて明らかにしたものである。この成果は、多核金属錯体を用いた触媒反応を開発するうえでの重要な 手掛かりを提供するものであり、工学上および工業上貢献するところが大きいものと思われる。以上の成果はEuCOMC2019や錯体化学討論会にて発表した。

タングステンとルテニウムを有する二核錯体について、架橋配位子にイミド配位子を持つ錯体、複数のヒドリド配位子を持つ錯体をそれぞれ合成し、その反応性を調査した。ビス架橋イミド錯体の反応性を調査したところ、それぞれの金属上で異なる反応が観察され、タングステン上ではアルキルリチウムとのトランスメタレーションが、ルテニウム上では2電子ドナーの配位が観測された。KC8との反応では、二電子還元された二核錯体によって溶媒（ベンゼン）のC-H結合が切断されることを明らかにした。このとき、１つの架橋イミド配位子が解離し、C-H結合切断により生成するヒドリドが架橋サイトに転移する様子が観察された。ポリヒドリド錯体の研究では、金属-ヒドリド結合に二酸化炭素が挿入しホルマート錯体が生成することを確認した。このとき、ルテニウム上の配位子がCp*の場合はタングステン上に２分子の二酸化炭素が挿入するのに対して、Cn*(1,4,7-トリメチルトリアザシクロノナン)の場合では、二つの金属に架橋したホルマート配位子が得られることを明らかにした。また、タングステン上の配位子が三座ホスフィン配位子の場合では、支持配位子上のC-H結合が活性化されるのに対し、３つのトリメチルホスフィン配位子の場合では、光照射することで溶媒のベンゼンのC-H結合を活性化することが明らかとなった。これらは、隣接する金属中心の協同効果を発揮させるための多金属反応場の設計について調査した結果であり、とくに混合配位子型W/Ru二核反応場の効率的な合成法の開発と反応性に及ぼす配位子の影響に ついて明らかにしたものである。この成果は、多核金属錯体を用いた触媒反応を開発するうえでの重要な 手掛かりを提供するものであり、工学上および工業上貢献するところが大きいものと思われる。以上の成果はEuCOMC2019や錯体化学討論会にて発表した。