Development of electrochemical dry polishing method for GaN surface using solid polymer electrolyte
Development of electrochemical dry polishing method for GaN surface using solid polymer electrolyte
固体聚合物电解质GaN表面电化学干法抛光方法的开发
批准号：
19K04117
负责人：
Murata Junji
金额：
$2.75万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2023-03-31
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DOI：
10.1016/j.matchemphys.2020.124081
发表时间：
2021-02
期刊：
Materials Chemistry and Physics
影响因子：
4.6
作者：
[Ryohei Umezaki;J. Murata]
通讯作者：
Ryohei Umezaki;J. Murata
高分子電解質を用いたTiの電気化学的表面改質
使用聚合物电解质对Ti进行电化学表面改性
使用聚合物电解质对Ti进行电化学表面改性
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[JIA Pengfei，梅崎凌平，村田順二]
通讯作者：
JIA Pengfei，梅崎凌平，村田順二
Microstructure fabrication method using a novel electrolyte-free electrochemical treatment with patterned polymer electrolyte membranes
使用新型无电解质电化学处理和图案化聚合物电解质膜的微结构制造方法
使用新型无电解质电化学处理和图案化聚合物电解质膜的微结构制造方法
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Ryohei Umezaki, Junji Murata]
通讯作者：
Junji Murata
高分子電解質を用いたワイドギャップ半導体の高能率電解複合研磨
利用聚合物电解质对宽禁带半导体进行高效电解复合抛光
利用聚合物电解质对宽禁带半导体进行高效电解复合抛光
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Zulkifle Che Nor Syahirah Binti Che, Hayama Kenshin, Murata Junji, 巴山顕真，チェノル シャヒラ ビンティ チェ ズルキフリ，村田順二]
通讯作者：
巴山顕真，チェノル シャヒラ ビンティ チェ ズルキフリ，村田順二
天然由来結合剤を用いた酸化セリウム固定砥粒パッドによるガラス研磨特性
使用使用天然粘合剂的氧化铈固定磨料垫的玻璃抛光性能
使用使用天然粘合剂的氧化铈固定磨料垫的玻璃抛光性能
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Dongjin Wu, Koji Teramoto, Jingkai Zeng, 北川俊希，岡田将人，三浦拓也，大津雅亮, 村田順二，石丸太一，山﨑小有里]
通讯作者：
村田順二，石丸太一，山﨑小有里
共 20 条
Development of chemical slicing method for Photovaltaic materials with low ker-loss and thin wafer thickness
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批准号：15K05736
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.08万
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财政年份：2015
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负责人：Murata Junji
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依托单位：
海外基金