Study on polishing phenomenon with AFM tip scratch machining
Study on polishing phenomenon with AFM tip scratch machining
AFM尖端划痕加工抛光现象研究
批准号：
19K04130
负责人：
Matsui Shinsuke
金额：
$2.83万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2023-03-31
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AFMスクラッチによる加工特性評価ー第10報：アルミナ，SiC触針による加工の比較検討ー
使用AFM划痕评估加工特性 - 第10次报告：使用氧化铝和SiC触针加工的比较研究 -
使用AFM划痕评估加工特性 - 第10次报告：使用氧化铝和SiC触针加工的比较研究 -
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[神 雅彦, 坂本 慈瑛, 金井 秀生, 佛生光，佐藤昌彦, 礒野泰地，松井伸介]
通讯作者：
礒野泰地，松井伸介
UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価第3報 ～研磨速度に対するポリシャの効果～
使用直接紫外线照射辅助的 GaN 衬底抛光评估第三次报告 ~抛光机对抛光速率的影响 ~
使用直接紫外线照射辅助的 GaN 衬底抛光评估第三次报告 ~抛光机对抛光速率的影响 ~
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Shinsuke MATSUI , Kouta HIROSHIMA , and Atsunobu UNE, 金枝知季 松井伸介，山本栄一，矢島利康 二宮大輔]
通讯作者：
金枝知季 松井伸介，山本栄一，矢島利康 二宮大輔
UV-light assist chemical mechanical polishing of GaN with mesh polisher made of chemical durable plastics
使用化学耐用塑料制成的网状抛光器进行紫外光辅助化学机械抛光 GaN
使用化学耐用塑料制成的网状抛光器进行紫外光辅助化学机械抛光 GaN
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Shinsuke Matsui, Mizuki Akahori,Takuma Suzuki,Eiichi Yamamoto,Tsubasa Bando,Yasutoshi Yajima and Daisuke Ninomiya]
通讯作者：
Mizuki Akahori,Takuma Suzuki,Eiichi Yamamoto,Tsubasa Bando,Yasutoshi Yajima and Daisuke Ninomiya
小型研磨機によるSiC基板の研磨特性の評価(第2報)
使用小型抛光机评估 SiC 衬底的抛光特性（第二次报告）
使用小型抛光机评估 SiC 衬底的抛光特性（第二次报告）
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[鈴木 拓磨, 松井 伸介, 矢島 利康, 二宮 大輔]
通讯作者：
二宮 大輔
UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価 第2報 ～酸化剤を用いた研磨高能率化～
使用 UV 直接照射辅助的 GaN 基板抛光评价，第 2 次报告～使用氧化剂的高效抛光～
使用 UV 直接照射辅助的 GaN 基板抛光评价，第 2 次报告～使用氧化剂的高效抛光～
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[上田大成, 松井伸介, 山本栄一, 坂東翼, 矢島利康, 二宮大輔]
通讯作者：
二宮大輔
共 16 条
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