High-rate sputter deposition technique by controlling surface states of substrate and target independently

独立控制基底和靶材表面状态的高速溅射沉积技术

• 批准号: 19K05090
• 负责人: ABE Yoshio
• 金额: $ 2.83万
• 依托单位: Kitami Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2019
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2019-04-01 至 2023-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K05090/
• 关键词: 水蒸気スパッタ法; 基板冷却; 高速成膜; 酸化物薄膜; 水酸化物薄膜; 金属ターゲットモード; 水酸化物; Ni(OH)2; エージング処理; 熱処理; 熱分解; β-Ni(OH)2; プロトン伝道性; プロトン伝導性; スパッタ; 薄膜

项目成果

Reactive sputter deposition of β-Ni(OH)2 thin films in Ar + H2O mixed gas atmosphere at a substrate temperature of －80 °C

-80 °C 基板温度下 Ar + H2O 混合气体气氛中反应溅射沉积 β-Ni(OH)2 薄膜

• DOI: 10.35848/1347-4065/acc999
• 发表时间: 2023
• 期刊: Japanese Journal of Applied Physics
• 影响因子: 1.5
• 作者: Yoshio Abe;Masaki Kataoka;Yuki Yokoiwa;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba
• 通讯作者: Takayuki Kiba

High-rate sputter deposition of chromium oxide thin films under metallic target mode using water vapor as a reactive gas

水蒸气作为反应气体在金属靶模式下高速溅射沉积氧化铬薄膜

• 发表时间: 2019
• 作者: Fan Wang;Yoshio Abe;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba
• 通讯作者: Takayuki Kiba

遷移金属酸化物のエレクトロクロミック特性とそのデバイスへの応用

过渡金属氧化物的电致变色性能及其在器件中的应用

• 发表时间: 2021
• 作者: Yoshio Abe;Masaki Kataoka;Yuki Yokoiwa;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba;阿部良夫
• 通讯作者: 阿部良夫

水蒸気スパッタ法におけるターゲット状態の制御と酸化タンタル薄膜の作製

水蒸气溅射法靶材条件的控制及氧化钽薄膜的制备

• 发表时间: 2019
• 作者: 伊藤勇佑;阿部良夫;川村みどり;金 敬鎬;木場隆之
• 通讯作者: 木場隆之

基板及びターゲット表面に水蒸気吹き付けした低温スパッタ成膜による酸化ニッケル薄膜の評価

通过向基材和靶材表面喷射水蒸气的低温溅射形成的氧化镍薄膜的评价

• 发表时间: 2020
• 作者: 片岡政貴;阿部良夫;川村みどり;金敬鎬;木場隆之
• 通讯作者: 木場隆之