Development of a new surface analysis technique using a vacuum ultraviolet short pulse laser as a probe

以真空紫外短脉冲激光为探针的新型表面分析技术的开发

基本信息

  • 批准号:
    19K05273
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2023-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(5)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
高性能光ファイバーセンサーの開発
高性能光纤传感器的研制
PLD 法によって付着させた Si(111)- 清浄表面上の金原子の STM 観察
PLD 方法沉积的 Si(111) 清洁表面上金原子的 STM 观察
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    高田大河;田中芳樹;永崎誠人;亀山晃弘;甲藤正人;横谷篤至
  • 通讯作者:
    横谷篤至
レーザー脱離分析装置用集光照射部の開発
激光解吸分析仪聚光照射装置的研制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    田中芳樹;中井健太;奥村勇之介;亀山晃弘;甲藤正人;横谷篤至
  • 通讯作者:
    横谷篤至
真空紫外・極端紫外光を用いた光脱離質量分析装置の開発
真空紫外/极紫外光光解吸质谱仪的研制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    横谷篤至;亀山晃弘;加来昌典;甲藤正人
  • 通讯作者:
    甲藤正人
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