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Development of a new surface analysis technique using a vacuum ultraviolet short pulse laser as a probe
以真空紫外短脉冲激光为探针的新型表面分析技术的开发
基本信息
- 批准号：19K05273
- 负责人：
- 金额：$ 2.83万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2019
- 资助国家：日本
- 起止时间：2019-04-01 至 2023-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（5）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
PLD 法によって付着させた Si(111)- 清浄表面上の金原子の STM 観察
PLD 方法沉积的 Si(111) 清洁表面上金原子的 STM 观察
- DOI：
- 发表时间：2021
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：高田大河;田中芳樹;永崎誠人;亀山晃弘;甲藤正人;横谷篤至
- 通讯作者：横谷篤至
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Yokotani Atsushi其他文献
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