全固体式真空紫外レーザーの実現
全固体式真空紫外レーザーの実現
批准号:
09875083
负责人:
天野 浩
金额:
$1.22万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
1997
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1997 至 1998
中文摘要
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英文摘要
二次高調波結晶、アップコンバージョン結晶等による固体式真空紫外レーザーダイオード実現のため、III族窒化物半導体レーザーダイオードの高性能化について検討した。AlInNはInNモル分率0.17でGaNと格子整合するため、新しいヘテロ接合用混晶として有望である。本研究では、組成の異なるAlInNをGaN上に成長し、格子整合する付近でモザイク性が最も減少し、高い結晶品質を有するAlInNの成長が可能であることをはじめて見出した。また、同混晶系からの室温でのフォトルミネッセンスを始めて観測した。活性層として用いられるGaInNの組成とバンド構造の関係を変調反射分光法を用いて精密に測定した。III族窒化物半導体レーザーダイオードは、通常サファイア上に作製されており、壁開性がないため、他の化合物半導体と同様の方法では共振器ミラー面を作製することは出来ない。本研究では、集束イオンビーム(FIB)加工装置を用いて共振器ミラーの作製を行った。その結果、FIBは有用であり、またミラー同士の回転角依存性やあおり角依存性に関して、新たな知見を得ることが出来た。また従来、光閉じ込め不足によるビームの多峰性が大きな問題であったが、AlGaNn型導電層を用いた新しい構造により単峰性ビームを実現した。現在、高出力化について検討を進めている。更に、二次高調波結晶やアップコンバージョン結晶とのカップリングについては今後の課題である。
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天野浩、 竹内哲也、 山口栄雄、 Christian Wetzel、 赤〓 勇: "サファイア上GaNの成長過程と結晶学的特性およびGaN上AlGaN、GaInNの結晶学的特性" 電子情報通信学会論文誌. C-II. 65-71 (1998)
Hiroshi Amano、Tetsuya Takeuchi、Hideo Yamaguchi、Christian Wetzel、Isamu Aka:“蓝宝石上 GaN 的生长过程和晶体学特性以及 GaN 上 AlGaN 和 GaInN 的晶体学特性”电子、信息和通信工程师协会学报 C-II。 .65-71 (1998)
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
H.Kato, T.Takeuchi, R.Mizuhoto, S.Yamaguchi, C.Wetzel, H.Amano, L.Akasaki, Y,Kaneko and N.Yamada: "GaN Based Laser Diode with Focused Ion Beams Etched Mirrors" Jpn.J.Appl.Phys.37. L444-L446 (1998)
H.Kato、T.Takeuchi、R.Mizuhoto、S.Yamaguchi、C.Wetzel、H.Amano、L.Akasaki、Y、Kaneko 和 N.Yamada:“具有聚焦离子束蚀刻镜的基于 GaN 的激光二极管”Jpn。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
:M.Iwaya, T.Takeuchi, S.Yamaguchi, C.Wetzel, H.Amano and I.Akasaki: "Reduction of Etch Pit Density in Organometallic Vapor Phase Epitaxy-Grown GaN on Sapphire by Insertion of a Low-Temperature-Deposited Buffer Layer between High-Temperature-Grown GaN" Jpn
:M.Iwaya、T.Takeuchi、S.Yamaguchi、C.Wetzel、H.Amano 和 I.Akasaki:“通过插入低温沉积层来降低蓝宝石上有机金属气相外延生长 GaN 中的蚀刻坑密度
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
C.Wetzel, T.Takeuchi, S.Yamaguchi, H.Katoh, H.Amano and I.Akasaki: "Optical bandgap in Ga_<1-x>In_xN (0<x<0.2) on GaN by photoreflection spectorscopy" Appl.Phys.Lett. 73. 1994-1996 (1998)
C.Wetzel、T.Takeuchi、S.Yamaguchi、H.Katoh、H.Amano 和 I.Akasaki:“通过光反射光谱法观察 GaN 上 Ga_<1-x>In_xN (0<x<0.2) 的光学带隙”
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
酒井浩光、 竹内哲也、 天野浩、 赤〓勇: "GaNの誘導放出機構と混晶効果" レーザー研究. 25. 510-513 (1997)
Hiromitsu Sakai、Tetsuya Takeuchi、Hiroshi Amano、Isamu Aka:“GaN 中的受激发射机制和混合晶体效应”激光研究 25. 510-513 (1997)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 9 条
High-Power Coherent THz Source Based on GaN IMPATTs
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批准号:22H00213
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$26.46万
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财政年份:2022
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负责人:天野 浩
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依托单位:
Growth of high-quality bulk GaN substrate by ammonothermal method
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批准号:19F19752
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.7万
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财政年份:2019
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负责人:天野 浩
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依托单位:
nGaN nanorod-based energy-harvesting/energy-saving devices/systems
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批准号:18F18347
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.7万
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财政年份:2018
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负责人:天野 浩
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依托单位:
無触媒窒化物系ナノワイヤの有機金属化合物気相成長と太陽光発電素子応用
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批准号:16F14366
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.77万
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财政年份:2016
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负责人:天野 浩
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依托单位:
無触媒窒化物系ナノワイヤの有機金属化合物気相成長と太陽光発電素子応用
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批准号:14F04366
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.77万
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财政年份:2014
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负责人:天野 浩
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依托单位:
紫外発光ダイオードを用いた皮膚病治療システム
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批准号:17650155
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.11万
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财政年份:2005
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负责人:天野 浩
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依托单位:
サファイア基板上へのレーザアシスト超高品質AlNエピタキシャル成長
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批准号:15656008
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.92万
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财政年份:2003
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负责人:天野 浩
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依托单位:
窒化物半導体極短波長面発光レーザの研究
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批准号:05805031
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.02万
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财政年份:1993
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负责人:天野 浩
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依托单位:
極短波長半導体レーザダイオードに関する基礎研究
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批准号:04855048
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1992
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负责人:天野 浩
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依托单位:
炭化珪素を中間層として用いた珪素基板上への窒化物単結晶薄膜育成に関する研究
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批准号:03855054
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1991
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负责人:天野 浩
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依托单位:
窒化物系ワイドギャップ半導体に於ける低加速電子線照射効果に関する研究
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批准号:02855067
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1990
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负责人:天野 浩
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依托单位:
海外基金