Development of photosensitive phosphonic acid derivatives for organic thin film transistor
Development of photosensitive phosphonic acid derivatives for organic thin film transistor
有机薄膜晶体管用光敏膦酸衍生物的开发
批准号：
18K05222
负责人：
YAMAGUCHI KAZUO
金额：
$2.75万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-04-01 至 2022-03-31
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(12)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
導電性金属ナノインクの選択的塗布に適した光分解性表面修飾剤の合成と評価
适用于导电金属纳米油墨选择性应用的光降解表面改性剂的合成与评价
适用于导电金属纳米油墨选择性应用的光降解表面改性剂的合成与评价
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[猪狩 拓真, 山口 和夫]
通讯作者：
山口 和夫
光応答性ホスホン酸を用いた位置選択的二官能性表面の作製
使用光响应膦酸制备区域选择性双功能表面
使用光响应膦酸制备区域选择性双功能表面
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[植田貴洸, 山口和夫, 猪狩拓真]
通讯作者：
猪狩拓真
POSS部位を有する光分解性シランカップリング剤による表面改質技術の開発
含POSS基团的光降解硅烷偶联剂表面改性技术的开发
含POSS基团的光降解硅烷偶联剂表面改性技术的开发
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[猪狩拓真, 重田康平, 山口和夫]
通讯作者：
山口和夫
感光性表面修飾剤の開発と親水ー疎水パターン形成への応用
光敏表面改性剂的研制及其在亲水-疏水图案形成中的应用
光敏表面改性剂的研制及其在亲水-疏水图案形成中的应用
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yanagita Takuya, Onodera Tsunenobu, Sato Rodrigo, Takeda Yoshihiko, Oikawa Hidetoshi, 山口 和夫]
通讯作者：
山口 和夫
化合物、表面処理剤及び表面処理方法
化合物、表面处理剂及表面处理方法
化合物、表面处理剂及表面处理方法
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
共 11 条
海外基金