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Elucidation of Cu diffusion barrier mechanism and control of Cu diffusion coefficient in W-atom-encapsulated Si cage clusters film
W原子封装Si笼状团簇膜中Cu扩散势垒机制的阐明和Cu扩散系数的控制
基本信息
- 批准号：18K13794
- 负责人：
- 金额：$ 2.66万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
- 财政年份：2018
- 资助国家：日本
- 起止时间：2018-04-01 至 2020-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（14）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
微細CMOS向け新コンタクト材料：クラスター気相合成法で形成したSiリッチWシリサイド膜
精细CMOS新型接触材料：团簇气相合成法形成富硅钨硅化物薄膜
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Naoya Okada;Noriyuki Uchida;Shinichi Ogawa;and Toshihiko Kanayama;岡田 直也
- 通讯作者：岡田 直也
Cluster-Preforming-Deposited Si-rich W Silicide: A New Contact Material for Advanced CMOS
团簇预成型沉积富硅钨硅化物：一种用于先进 CMOS 的新型接触材料
- DOI：10.1149/08903.0155ecst
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Naoya Okada;Noriyuki Uchida;Shinichi Ogawa;and Toshihiko Kanayama
- 通讯作者：and Toshihiko Kanayama
Gas-phase reactions of WF6 with SiH4 for deposition of WSin films free from powder formation
WF6 与 SiH4 的气相反应用于沉积无粉末形成的 WSin 薄膜
- DOI：10.7567/1347-4065/ab01d4
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：Naoya Okada;Noriyuki Uchida;Shinichi Ogawa;and Toshihiko Kanayama
- 通讯作者：and Toshihiko Kanayama
Identification of different gas-phase reaction modes of WF6 with SiH4 for deposition of WSin films: powder formation and WSin cluster synthesis
WF6 与 SiH4 沉积 WSin 薄膜的不同气相反应模式的识别：粉末形成和 WSin 簇合成
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Naoya Okada;Noriyuki Uchida;Shinichi Ogawa;and Toshihiko Kanayama
- 通讯作者：and Toshihiko Kanayama
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ patent.updateTime }}
OKADA NAOYA其他文献
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
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