Development of Electrophilic C-H Borylation Using Boron Triiodide
Development of Electrophilic C-H Borylation Using Boron Triiodide
使用三碘化硼进行亲电 C-H 硼化反应的发展
批准号：
18K14228
负责人：
Oda Susumu
金额：
$2.5万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-04-01 至 2020-03-31
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４配位ホウ素を縮環部に有するダブルヘリセンの合成と物性
稠环部分4配位硼双螺旋烯的合成及物理性质
稠环部分4配位硼双螺旋烯的合成及物理性质
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[鳥田康樹, 原口亮介, 金本 和也, 福澤信一, 北村 圭，工藤涼司，羽村季之, 小田 晋，清水 剛志，片山 敬純，吉川 浩史，畠山 琢次]
通讯作者：
小田 晋，清水 剛志，片山 敬純，吉川 浩史，畠山 琢次
Synthesis and Physical Properties of Tetracoordinate Boron-Fused Double Helicenes
四配位硼稠合双螺旋烯的合成及物理性质
四配位硼稠合双螺旋烯的合成及物理性质
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Susumu Oda, Takeshi Shimizu, Takazumi Katayama, Hirofumi Yoshikawa, and Takuji Hatakeyama]
通讯作者：
and Takuji Hatakeyama
DOI：
10.1021/acs.orglett.9b04483
发表时间：
2020-01-17
期刊：
ORGANIC LETTERS
影响因子：
5.2
作者：
[Oda, Susumu, Ueura, Kenta, Hatakeyama, Takuji]
通讯作者：
Hatakeyama, Takuji
DOI：
10.1021/acs.orglett.9b03342
发表时间：
2019-12-06
期刊：
ORGANIC LETTERS
影响因子：
5.2
作者：
[Oda, Susumu, Kawakami, Bungo, Hatakeyama, Takuji]
通讯作者：
Hatakeyama, Takuji
Photoredox catalyzed reactions using thermally activated delayed fluorescent molecules
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批准号：20K15291
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项目类别：Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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资助金额：$2.66万
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财政年份：2020
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负责人：Oda Susumu
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依托单位：
A search of new physics by measurement of properties of the Higgs boson
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批准号：26800140
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项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额：$2.41万
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财政年份：2014
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负责人：Oda Susumu
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依托单位：
海外基金