Large area of 3D fabrication by atomic Moire using graphene and electron beam
Large area of 3D fabrication by atomic Moire using graphene and electron beam
使用石墨烯和电子束通过原子莫尔条纹进行大面积 3D 制造
批准号：
18K18811
负责人：
Mizutani Yasuhiro
金额：
$3.99万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-06-29 至 2020-03-31
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微細構造体及びその製造方法
显微组织及其制造方法
显微组织及其制造方法
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
Shape control of nano periodic structure using hologram-assisted Talbot lithography
使用全息辅助 Talbot 光刻技术控制纳米周期结构的形状
使用全息辅助 Talbot 光刻技术控制纳米周期结构的形状
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Hroki Nakanishi, Yasuhiro Mizutani, Yasuhiro Takaya]
通讯作者：
Yasuhiro Takaya
タルボットリソグラフィにおけるホログラムを用いたナノ周期構造の形状制御
在塔尔博特光刻中使用全息图控制纳米周期结构的形状
在塔尔博特光刻中使用全息图控制纳米周期结构的形状
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[中西弘樹, 水谷康弘, 牧浦良彦, 横田博, 高谷裕浩]
通讯作者：
高谷裕浩
タルボット効果を用いた広範囲3次元リソグラフィ(第3報) -高分子膜への構造転写手法の開発-
利用塔尔博特效应的大范围三维光刻（第3次报告） -高分子膜结构转移方法的开发-
利用塔尔博特效应的大范围三维光刻（第3次报告） -高分子膜结构转移方法的开发-
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[坂野文香, 小木曽望, 田中宏明, 岩佐貴史, 小布施 秀明, 江崎隆，水谷康弘，金子新，牧浦良彦，横田博，高谷裕浩]
通讯作者：
江崎隆，水谷康弘，金子新，牧浦良彦，横田博，高谷裕浩
タルボット効果を用いた広範囲3次元リソグラフィ (第2報) -多重露光を援用した3次元ナノ周期構造の作製-
使用塔尔博特效应的宽范围 3D 光刻（第二份报告） - 使用多次曝光制造 3D 纳米周期结构 -
使用塔尔博特效应的宽范围 3D 光刻（第二份报告） - 使用多次曝光制造 3D 纳米周期结构 -
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[中西弘樹, 水谷康弘, 高谷裕浩]
通讯作者：
高谷裕浩
共 10 条
Surface measurement with sub-nano order resolution by using Spin Hall effect of light generated by optical frequency comb
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批准号：19H02154
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额：$11.23万
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财政年份：2019
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负责人：Mizutani Yasuhiro
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依托单位：
Ghost imaging for detecting sub-nano defect
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批准号：16H04375
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额：$10.9万
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财政年份：2016
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负责人：Mizutani Yasuhiro
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依托单位：
Ghost Imaging Ellipsometry
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批准号：15K13914
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项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额：$2.41万
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财政年份：2015
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负责人：Mizutani Yasuhiro
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依托单位：