Atomic Layer Deposition of Metal Oxides
金属氧化物的原子层沉积
基本信息
- 批准号:580764-2022
- 负责人:
- 金额:$ 1.64万
- 依托单位:
- 依托单位国家:加拿大
- 项目类别:Alliance Grants
- 财政年份:2022
- 资助国家:加拿大
- 起止时间:2022-01-01 至 2023-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Metal oxides are key materials in the semiconductor industry and are generally made by a method called Atomic Layer Deposition (ALD) for advanced electronic devices. However, thus-made metal oxide materials show performance that are often irreproducible. The goal of this project is to develop a reproducible, efficient, and stable metal oxide synthesis methods in partnership with an industry partner.
金属氧化物是半导体工业中的关键材料,通常通过一种被称为原子层沉积(ALD)的方法来制造先进的电子器件。然而,这样制成的金属氧化物材料表现出通常无法复制的性能。该项目的目标是与行业合作伙伴合作,开发一种可重复使用、高效和稳定的金属氧化物合成方法。
项目成果
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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
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