微弱電流を応用した新規低侵襲網膜レーザー治療の研究
微弱電流を応用した新規低侵襲網膜レーザー治療の研究
批准号:
22K16964
负责人:
戸塚 清人
金额:
$3.0万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份:
2022
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2022-04-01 至 2025-03-31
中文摘要
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英文摘要
現在の糖尿病黄斑浮腫(DME)の治療としては抗血管内皮細胞増殖因子(VEGF)療法が主流だが、積極的な投与でも浮腫残存例が存在し、さらなる治療選択肢の拡大が課題となっている。近年ではマイクロパルスの閾値下レーザー(SMPL)を用いた低侵襲黄斑レーザーが注目されており、網膜色素上皮(RPE)細胞への適度な温熱刺激によって、奏功機序のkey triggerとされる熱ショック 蛋白(HSP)の発現上昇が知られている。しかし、照射出力が高いと過度の温度上昇によって、デリケートな黄斑部への組織傷害を及ぼすリスクもあるため、確立された治療としては課題も残されている。ここで、温熱刺激によるHSP発現をさらに増強する補因子として微弱電流(MES)が知られており、網膜レーザー治療に活かせる可能性がある。本研究では、SMPLにMESを併用することで、DMEに対する新たな低侵襲レーザー戦略として応用できるかどうかを検証する。現時点では、まずSMPLを用いずにMESが及ぼす効果を検証している。ヒト培養RPE細胞を用いてMES併用温熱刺激を施行し、HSP及びVEGFの発現動態をmRNAレベル(qPCR)で評価した。結果として、MES併用温熱刺激を施行したRPE細胞ではHSPの有意な上昇を認め、VEGFの低下を認めた。また、既報をもとにヒト培養RPE細胞を処理したDMEモデルを作成し、同様にMES併用温熱刺激を施行した。このモデルでは未処理のモデル(コントロール)と比較してHSPの有意な上昇を認め、VEGFの低下を認めた。以上の細胞実験の結果から、MES併用温熱刺激を施行することでHSPを発現させ、さらにVEGFの減少を誘導した可能性が示唆された。今後はさらに検討項目を増やし、蛋白レベルでの評価とともに、モデル動物を用いた実験に移行する予定である。
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