ホスト-ゲスト錯形成におけるエンタルピー・エントロピーと分子構造との相関解明

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フェノール性クラウンエーテルとアミン類との錯形成においては、多くの場合に錯安定性の尺度の一つである錯安定度定数(K)の対数(1nK)がI/Tと直線間系を持ち、エンタルピー・エントロピー各効果を定量的に見積もり得る。この錯形成反応を用いれば、主に室温付近における錯形成能に基づき立体反発や受容体の基質捕捉部の空孔サイズと気質サイズの適合性など定性的な受容体-基質相補性を主な判断基準としたこれまでの分子設計に、エンタルピー・エントロピー各項を考慮した新たな判断基準を提案でき、制度の高い受容体設計に寄与しうるのではないかと考え、以下の三段階の研究計画を立てた。(i)人工受容体選定およぴ合成:構造相関のつく複数のクラウンエーテルを合成する。(ii)アミン類との錯形成能の温度依存性の検討、(iii)エンタルピー・エントロピーの各項と受容体-基質間の分子構造相関解明本年度は、昨年合成に成功した6種類のホストの内、フェニル基をキラルバリアとするホストを含む5種類のホストについて、錯形成能評価のための大量合成に成功し、ゲストアミンとの錯形成における温度依存性の評価を完了した。エンタルピー・エントロピーの各項と受容体-基質間の分子構造相関を検討している。