窒化物半導体による1μm波長帯量子カスケードレーザの基礎研究
窒化物半導体による1μm波長帯量子カスケードレーザの基礎研究
批准号:
11750296
负责人:
菊池 昭彦
金额:
$1.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1999
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1999 至 2000
中文摘要
本年度は、光通信用波長帯である1.55〜1.3μm波長におけるAlN/GaN量子カスケードレーザを作製するための結晶成長実験を中心に研究を行い、AlN/GaN二重障壁構造に於いて、明瞭な量子効果(負性微分抵抗)を室温で観測するに至った。ここでは分子線エピタキシー法(RF-MBE)を用いてサファイア基板上に直接高品質GaN結晶を成長する技術の開発(1)と、MBE法が苦手とする初期成長を回避して、MBEの本質な特徴である超薄膜ヘテロ構造成長を実証するためのデバイス作製(2,3)を行った。1.GaNナノコラムによる無歪GaN成長法の開発:サファイア基板上に成長したGaN系材料では、基板結晶とGaNの熱膨張係数の違いによる残留歪が存在する。これはデバイス加工上の障害となり、更に素子特性を劣化させる要因となる。通常、歪の無いGaN結晶を得るためには100μmを超える厚膜GaNの成長を必要とするが、ここでは我々が開発したGaNナノコラムと呼ばれる直径0.1μm以下の柱状GaN結晶をバッファ層として用い、その上にGaNの連続膜を成長する方法を提案した。この手法により、わずか数μmの厚さで、サファイア基板上に歪の無いGaN結晶を得ることに成功した。2.GaN/AlGaN高電子移動度トランジスタ(HEMT)の作製:MOCVD法で成長した高品質GaN結晶上にRF-MBE法でAlGaN/GaN-HEMT構造を試作した。初期的な実験にもかかわらず、室温における最高移動度は1200cm^2/Vsを超え、最高シートキャリア密度も2.5x10^<13>cm^<-2>と良好であり、高品質なヘテロ界面が形成されていることを示めす結果が得られた。3.GaN/AlN共鳴トンネルダイオードによる室温負性抵抗の観測:GaNとAlNは2eVという従来の化合物半導体では得られなかった高い伝導体不連続を有することから各種量子効果デバイスへの応用が期待されているが、数原子層厚での膜厚制御と優れた平坦性が要求されるため、作製が難しい。MOCVD法で成長した高品質GaN上に、昨年度報告したAlN多重中間層による転位低減法を用い、AlN/GaN二重障壁トンネルダイオードを成長した。作製したデバイスは室温に於いて明瞭な負性微分抵抗を示した。これは我々の知る限り世界で初めての報告であり、RF-MBEによるカスケードレーザの実現の可能性を強く示唆する結果といえよう。
英文摘要
本年度は、光通信用波長帯である1.55〜1.3μm波長におけるAlN/GaN量子カスケードレーザを作製するための結晶成長実験を中心に研究を行い、AlN/GaN二重障壁構造に於いて、明瞭な量子効果(負性微分抵抗)を室温で観測するに至った。ここでは分子線エピタキシー法(RF-MBE)を用いてサファイア基板上に直接高品質GaN結晶を成長する技術の開発(1)と、MBE法が苦手とする初期成長を回避して、MBEの本質な特徴である超薄膜ヘテロ構造成長を実証するためのデバイス作製(2,3)を行った。1.GaNナノコラムによる無歪GaN成長法の開発:サファイア基板上に成長したGaN系材料では、基板結晶とGaNの熱膨張係数の違いによる残留歪が存在する。これはデバイス加工上の障害となり、更に素子特性を劣化させる要因となる。通常、歪の無いGaN結晶を得るためには100μmを超える厚膜GaNの成長を必要とするが、ここでは我々が開発したGaNナノコラムと呼ばれる直径0.1μm以下の柱状GaN結晶をバッファ層として用い、その上にGaNの連続膜を成長する方法を提案した。この手法により、わずか数μmの厚さで、サファイア基板上に歪の無いGaN結晶を得ることに成功した。2.GaN/AlGaN高電子移動度トランジスタ(HEMT)の作製:MOCVD法で成長した高品質GaN結晶上にRF-MBE法でAlGaN/GaN-HEMT構造を試作した。初期的な実験にもかかわらず、室温における最高移動度は1200cm^2/Vsを超え、最高シートキャリア密度も2.5x10^<13>cm^<-2>と良好であり、高品質なヘテロ界面が形成されていることを示めす結果が得られた。3.GaN/AlN共鳴トンネルダイオードによる室温負性抵抗の観測:GaNとAlNは2eVという従来の化合物半導体では得られなかった高い伝導体不連続を有することから各種量子効果デバイスへの応用が期待されているが、数原子層厚での膜厚制御と優れた平坦性が要求されるため、作製が難しい。MOCVD法で成長した高品質GaN上に、昨年度報告したAlN多重中間層による転位低減法を用い、AlN/GaN二重障壁トンネルダイオードを成長した。作製したデバイスは室温に於いて明瞭な負性微分抵抗を示した。これは我々の知る限り世界で初めての報告であり、RF-MBEによるカスケードレーザの実現の可能性を強く示唆する結果といえよう。
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豊浦洋祐 他: "窒化物系共振型紫外線受光素子の設計とRF-MBE法によるAlGaN系DBRの試作"電子情報通信学会Technical Report of IEICE. OFT99-54 OPE99-142. 19-24 (2000)
Yosuke Toyoura 等人:“使用 RF-MBE 方法设计氮化物基谐振紫外光接收元件和原型生产 AlGaN 基 DBR”IEICE OFT99-54 OPE99-142 (2000) 的 IEICE 技术报告。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
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通讯作者:
K.Kusakabe et al.: "Quasi-free standing GaN epitaxial layer grown on nano-columnar by RF-molecular beam epitaxy"Proceedings of International Symposium on Compound Semiconductors 2001. (2001)
K.Kusakabe 等人:“通过 RF 分子束外延在纳米柱上生长的准自由站立 GaN 外延层”2001 年国际化合物半导体研讨会论文集。(2001)
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发表时间:
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影响因子:
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作者:
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通讯作者:
杉原大輔 他: "RF-MBE法によるMEE法を用いたGaN:Si厚膜成長"第60回応用物理学会学術講演会. 2a-V-10 (1999)
Daisuke Sugihara 等人:“使用 RF-MBE 方法使用 MEE 方法生长 GaN:Si 厚膜”第 60 届日本应用物理学会年会 2a-V-10 (1999)。
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发表时间:
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影响因子:
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作者:
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通讯作者:
豊浦洋祐 他: "AlGaN系紫外領域共振型受光素子の理論解析"第47回応用物理学関係連合講演会. 31a-YQ-9 (2000)
Yosuke Toyoura等人:“基于AlGaN的紫外谐振光电探测器的理论分析”第47届应用物理学会会议31a-YQ-9(2000)。
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发表时间:
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影响因子:
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作者:
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通讯作者:
A.Kikuchi et al.: "Improvement of crystal quality of RF-molecular beam epitaxy grown Ga-polarity GaN by high-temperature grown AlN multiple intermediate layers"Japanese Journal of Applied Physics. 39・4B. L330-L333 (2000)
A. Kikuchi 等人:“通过高温生长 AlN 多个中间层提高 RF 分子束外延生长的 Ga 极性 GaN 的晶体质量”日本应用物理学杂志 39・4B (2000)。
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
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通讯作者:
共 33 条
InGaN系フォトニック結晶を用いる可視域トポロジカル面発光レーザの開発
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批准号:24K00950
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.81万
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财政年份:2024
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负责人:菊池 昭彦
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依托单位:
胎児心電図から得られた胎児心拍数基線細変動のカオス時系列解析
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批准号:19K09830
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.83万
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财政年份:2019
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负责人:菊池 昭彦
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依托单位:
胎盤組織血流診断における超音波造影剤の有用性と安全性に関する基礎的研究
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批准号:13770906
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2001
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负责人:菊池 昭彦
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依托单位:
分子線エピタキシー法による1μm波長帯GaN/AlN量子カスケードレーザの開発
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批准号:13750315
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2001
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负责人:菊池 昭彦
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依托单位:
量子井戸サブバンド間遷移を用いた窒化物半導体モノポーラ光デバイスの基礎研究
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批准号:09750389
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.6万
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财政年份:1997
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负责人:菊池 昭彦
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依托单位:
分子線エピタキシ-法によるAlGaInN共振型紫外線受光素子の研究
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批准号:07750392
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.7万
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财政年份:1995
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负责人:菊池 昭彦
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依托单位:
海外基金