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超高精度プラズマプロセス用オンウエハーモニタリングシステムの構築

超高精度等离子体工艺片上监控系统构建

基本信息

批准号：
14655030
负责人：
寒川誠二
金额：
$ 2.18万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份：
2002
资助国家：
日本
起止时间：
2002 至 2003
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-14655030/
关键词：
オンウエハモニタリングプラズマプロセス光照射損傷マイクロマシンセンサーイオンエネルギー分布電子エネルギー分布側壁導電性微細加工薄膜堆積モニタリングオンウエハーモニタリングイオンエネルギーフォトン蓄積電荷量

项目摘要

LSIプロセスおよびマイクロマシン技術をもとにプラズマモニタリング用マイクロセンサー(阻止電界型イオンエネルギーアナライザー、電子エネルギーアナライザー、フォトン検出器、マイクロ分光器、側壁導電性測定プローブ)を開発した。以下に実績をのべる。1.阻止電界型イオンエネルギーアナライザー電極用Al、電極間絶縁用のSiO2の材料を交互に積層させて、これにコンタクトホールを形成し、阻止電界型のイオンエネルギーアナライザーを試作した。電子阻止電極に電圧を加え、コレクタ電極に流れる電流のI-V特性からイオンエネルギー分布を評価することに成功した。イオンエネルギーのピークは30V程度であり、プラズマの空間電位より見積もられる値と一致した。2.電子エネルギーアナライザーシリコン基板状に電極パッドを作成し、これに絶縁膜を堆積させ、その後コンタクトホールを形成する。本センサーを用いてI-V特性からウェハ上のパターン内に入射する電子のエネルギーを評価することに成功した。ウェハ上で検出される電子のエネルギーはプラズマ中のものより高く現れた。3.フォトン検出器絶縁膜中にそのバンドギャップよりも高いエネルギーの光が入射すると電子-正孔対が生成する。このホールを絶縁膜中に作製した電極にバイアスをかけてホール電流として測定する。各種絶縁膜構造に対して、プロセスガスを変えて測定を行った。ホール電流の大小が光照射によるデバイスダメージと大きな相関があることが明らかになった。4.マイクロ分光器光導波路、回折構造、光検出器を集積して、マイクロ分光器を試作した。光導波試験により、入射光が波長ごとに分解され、分光された光が光検出器により検出されることを確認した。5.側壁導電性測定プローブコンタクトホールエッチング時にホール側壁に形成される保護膜(フロロカーボン膜)の導電性を測定するためのプローブを作製した。本プローブにより側壁保護膜(フロロカーボン膜)に導電性があることがはじめて分かった。

LSI chip technology enables the development of chip technology (block type chip technology, electronic chip technology, chip detector, chip spectrometer, sidewall conductivity measurement). The following is a summary of the results achieved. 1. To prevent the formation of Al for electrodes and SiO2 for insulation between electrodes, try to prevent the formation of Al for electrodes. The I-V characteristics of the current flowing through the electron blocking electrode are evaluated successfully. The IONEEREL ® chip has a voltage of 30V, and the space potential of the PULARMA ® chip has a consistent value. 2. The electron beam is formed by depositing an insulating film on a substrate and forming a substrate electrode. This paper describes the application of I-V characteristics in the evaluation of electron emission. It's not like you're going to be able to do that. 3. The electron detector has an electron hole pair in the middle of the insulating film. This is the first time I've ever seen a woman. All kinds of insulation film structure The size of the current is different from that of the light. 4. Optical splitter optical waveguide, folding structure, optical detector integration, optical splitter test Optical waveguide test, incident light wavelength, decomposition, spectroscopy, optical detector, detection 5. Measurement of the conductivity of the sidewall when the protective film is formed This film is conductive and has a high conductivity.