立体的微細加工技術による曲面ナノモールディング

使用三维微加工技术的弯曲纳米成型

• 批准号: 16656047
• 负责人: 羽根 一博
• 金额: $ 2.18万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Exploratory Research
• 财政年份: 2004
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2004 至 2006
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-16656047/
• 关键词: ナノインプリント; 光学素子; サブ波長格子; モールド; ポリマー; 電子線描画; エッチング

半導体微細加工技術によりシリコン及びガラス曲面に製作したナノ構造をモールディングにより転写し,曲面ナノ構造を製作する技術を確立することを目的としている.本目的を実現するために,まず,電子線描画装置により平面シリコン上へ超微細構造(サブ波長2次元格子)を描画し,原子線エッチングによりモールドを製作した.まずシリコン基板上の電子線レジストへ周期200nmから500nm程度の2次元格子パターンを製作した.次に原子線エッチング装置を用いて,シリコン基板へ転写した.エッチング条件を調節することで,テーパ断面形状を実現した.非球面補正を行ったフレネルレンズも製作した.この場合,最小周期はおよそ700nm程度であった.シリコン基板上にレジストリフローによりレンズ形状を形成し,エッチングによりシリコン基板にレンズ形状を転写した.電子線描画の深い焦点深度を利用して,シリコンレンズ曲面にサブ波長格子を製作した.レンズ曲面の中心付近および周辺部においてサブ波長格子を精度よく製作できた.モールド加工については,ポリマーをほっとエンボス法によりシリコンモールドに流し込み,100nmレベルの周期構造を転写した.また平面シリコン基板に,最初にサブ波長格子を形成し,後に厚膜レジストのリフロー法によりレンズ形成し,深堀エッチングによりシリコンに無反射ナノ格子を備えたレンズを形成する方法についても実験を試みた.

Semiconductor microfabrication technology に よ り シ リ コ ン and び ガ ラ ス surface に making し た ナ ノ tectonic を モ ー ル デ ィ ン グ に よ り planning write し, surface ナ ノ structure を producing す る technology を establish す る こ と を purpose と し て い る. This purpose を be presently す る た め に, ま ず, painted in the electronic line に よ り plane シ リ コ ン へ on ultra micro structure (サ ブ wavelength) 2 dimensional grid を painted し, atomic line エ ッ チ ン グ に よ り モ ー ル ド を making し た. ま ず シ リ コ ン substrate の electronic line レ ジ ス ト へ cycle 200 nm か ら degree of 500 nm の 2 dimensional lattice パ タ ー ン を Make た. Time に atomic line エ ッ チ ン を グ device with い て, シ リ コ ン substrate へ planning write し た. エ ッ チ ン を グ conditions adjust す る こ と で, テ ー パ cross-section shape を be presently し た. Aspheric corrections を line っ た フ レ ネ ル レ ン ズ も making し た. こ の occasions, the minimum cycle は お よ そ degree of 700 nm で あ っ た. シ リ コ ン substrate に レ ジ ス ト リ フ ロ ー に よ り レ ン ズ を し formation, shape エ ッ チ ン グ に よ り シ リ コ ン substrate に レ ン ズ shape を planning write し た. Electronic line painted の deep い focal depth を using し て, シ リ コ ン レ ン ズ surface に サ ブ を wavelength grid production し た. レ ン ズ surface の center pay nearly お よ び weeks 辺 department に お い て サ ブ を precision wavelength grid よ く making で き た. モ ー ル ド processing に つ い て は, ポ リ マ ー を ほ っ と エ ン ボ ス method に よ り シ リ コ ン モ ー ル ド に flow し 込 み, 1 00 nm レ ベ ル の を cycle structure planning write し た. ま た plane シ リ コ ン substrate に, initially に サ ブ を form し wavelength grid, after に thick film レ ジ ス ト の リ フ ロ ー method に よ り レ ン ズ し formation, deep Mr エ ッ チ ン グ に よ り シ リ コ ン に no reflection ナ を ノ grid for え た レ ン ズ を form す る method に つ い て も be 験 を try み た.

项目成果

位相シフトマスクを利用した立体サンプルの露光法

使用相移掩模的 3D 样品曝光方法

• 发表时间: 2006
• 期刊: 電気学会論文誌E 126・6
• 作者: 榊裕之監修;木塚徳志分担執筆;Y.Kanamori;佐々木実
• 通讯作者: 佐々木実

A surface emitting solid polymer dye laser using a guided mode resonant grating for bio-optical detections

使用导模谐振光栅进行生物光学检测的表面发射固体聚合物染料激光器

• 发表时间: 2005
• 作者: T.Kobayashi;Y.Kanamori;K.Hane
• 通讯作者: K.Hane

Fabrication of transmission color filters using silicon subwavelength gratings on quartz substrates

• DOI: 10.1109/lpt.2006.883208
• 发表时间: 2006-09-01
• 期刊: IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS
• 影响因子: 2.6
• 作者: Kanamori, Yoshiaki;Shimono, Masaya;Hane, Kazuhiro
• 通讯作者: Hane, Kazuhiro