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レーザー化学反応による常磁性超微粒子を用いた磁性膜の作製

激光化学反应利用顺磁性超细颗粒制备磁性薄膜

基本信息

批准号：
05650685
负责人：
真嶋哲朗
金额：
$ 1.15万
依托单位：
The Institute of Physical and Chemical Research
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1993
资助国家：
日本
起止时间：
1993 至无数据
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-05650685/
关键词：
レーザー化学反応常磁性超微粒子磁性膜

项目摘要

本研究では、レーザー化学反応によって鉄微粒子からなる非磁性膜を作製し、加熱により磁性膜を作製することについて調べた。我々は、Fe(CO)_5またはFe(CO)_5-Co(CO)_3NOを原料とするCO_2パルスレーザー化学反応(SF_6赤外光増感反応または誘導破壊反応)によって、gamma鉄超微粒子またはgamma鉄-コバルト合金超微粒子(常温・常圧下で面心立方構造、粒径8nmの球状、常磁性、加熱によりalpha相・強磁性へ変態)を合成できることを、既に見いだしている。この方法により非磁性微粒子を作製するため、まず、反応ガス連続供給照射容器や微粒子捕集器の作製、照射システムの構築、原料ガス供給システムの構築を行い、gamma鉄超微粒子およびgamma鉄-コバルト合金超微粒子を作製した。次に、この常磁性微粒子の粉末をオリゴエステルアクリレートに分散したものを、ガラスの表面に塗布し、常磁性膜を作製した。作製した常磁性膜を熱オーブン(200℃以下)中に入れ硬化させた。さらにこの常磁性膜を鉄および鉄-コバルト合金超微粒子のgamma相からalpha相への変態温度(150-250℃)以上に加熱して、強磁性を発現させ磁性膜を作製することに成功した。次に、レーザー合成法により直接基板上に常磁性金属を作製する方法について検討した。レーザー化学反応を照射容器内に設置した基板の近傍で起こすことによって、基板表面上に直接非磁性膜を作製することができた。この非磁性微粒子膜をアルゴン雰囲気下で150-250℃以上に加熱することによって、磁性膜を作製することに成功した。この方法による非磁性薄膜の生成機構、レーザー照射条件の効果についても調べた。

In this study, we studied the chemical reaction, the microparticles, the non-magnetic film, the magnetic film and the magnetic film. The raw materials of Fe (CO) _ 5-Co (CO) _ 3NO, Fe (CO) _ 5, CO _ 2, CO _ 2, SF_6, gamma, FCC, 8nm, sphere, magnetism, etc. Add the alpha phase and magnetic properties) to synthesize the structure of the phase. Methods the non-magnetic microparticles were used to detect and treat the radiation containers, and the raw materials were supplied to the radiation container. The raw materials were supplied to the radiation industry, and the gamma ultrafine particles were used to gamma the alloy ultrafine particles. The secondary magnetic particles, the powder, the powder. In the normal magnetic film (below 200 ℃), the film is hardened. The alloy ultrafine particles, gamma phase, alpha phase, temperature, temperature and temperature. The second part is about the synthesis method. The constant magnetic metal on the direct substrate is used as the method. The chemical reaction device in the irradiation container is set up. The substrate is close to the substrate, and the direct non-magnetic film on the surface of the substrate is used as the device. The non-magnetic particle sub-film is located above 150-250 ℃, and the magnetic film is used as a non-magnetic particle film. The method is based on the non-magnetic film generation machine and the irradiation conditions.