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イオン注入用半絶縁性GaAsに関する研究(特に欠陥とCrの関係について)

イオン注入用半絶縁性GaAsに関する研究(特に欠陥とCrの関係について)
离子注入用半绝缘GaAs研究(特别是缺陷与Cr的关系)
批准号:
57460109
负责人:
長谷川 文夫
金额:
$4.67万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
财政年份:
1982
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1982 至 1984
关键词:

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塩化物法によるAlGaAs原子層エピタキシーの成長機構
  • 批准号:
    05211204
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $0.96万
  • 财政年份:
    1993
  • 负责人:
    長谷川 文夫
  • 依托单位:
塩化物法によるAlGaAs原子層エピタキシーの成長機構
  • 批准号:
    04227207
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $1.41万
  • 财政年份:
    1992
  • 负责人:
    長谷川 文夫
  • 依托单位:
塩化物法によるAlGaAs原子層エピタキシ-の成長機構
  • 批准号:
    03243208
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $1.6万
  • 财政年份:
    1991
  • 负责人:
    長谷川 文夫
  • 依托单位:
金属シリサイド/pーSi_<1ーx>Ge_x界面の作製とその制御
  • 批准号:
    02232206
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $0.96万
  • 财政年份:
    1990
  • 负责人:
    長谷川 文夫
  • 依托单位: