イオン注入用半絶縁性GaAsに関する研究(特に欠陥とCrの関係について)
イオン注入用半絶縁性GaAsに関する研究(特に欠陥とCrの関係について)
批准号:
57460109
负责人:
長谷川 文夫
金额:
$4.67万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
财政年份:
1982
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1982 至 1984
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会议论文
塩化物法によるAlGaAs原子層エピタキシーの成長機構
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批准号:05211204
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$0.96万
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财政年份:1993
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负责人:長谷川 文夫
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依托单位:
塩化物法によるAlGaAs原子層エピタキシーの成長機構
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批准号:04227207
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1992
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负责人:長谷川 文夫
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依托单位:
塩化物法によるAlGaAs原子層エピタキシ-の成長機構
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批准号:03243208
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.6万
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财政年份:1991
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负责人:長谷川 文夫
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依托单位:
金属シリサイド/pーSi_<1ーx>Ge_x界面の作製とその制御
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批准号:02232206
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$0.96万
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财政年份:1990
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负责人:長谷川 文夫
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依托单位:
金属シリサイド/p-Si_<1-x>Gex界面の作製とその制御
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批准号:01650507
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1989
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负责人:長谷川 文夫
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依托单位:
塩化物法によるAlGaAsの原子層エピタキシ-
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批准号:63460054
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
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资助金额:$1.98万
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财政年份:1988
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负责人:長谷川 文夫
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依托单位:
金属Alを用いたAlGaAs/GaAsヘテロ構造・クロライド気相成長法の開発
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批准号:63850003
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$4.93万
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财政年份:1988
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负责人:長谷川 文夫
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依托单位:
高エネルギー,ギャップ混晶半導体の成長と物性
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批准号:60222006
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项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
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资助金额:$1.79万
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财政年份:1985
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负责人:長谷川 文夫
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依托单位: